DE3007401A1

DE3007401A1 - METHOD FOR DEVELOPING POSITIVELY WORKING LIGHT-SENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATES

Info

Publication number: DE3007401A1
Application number: DE19803007401
Authority: DE
Inventors: Haruo Ito; Shizuoka Kawashiri; Hiroshi Takahasi; Masaru Watanabe
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1979-02-27
Filing date: 1980-02-27
Publication date: 1980-09-04
Also published as: GB2046931A; GB2046931B

Description

MDNCHEN DR. E. WIEGAND DR. M. KÖHLER DIPI.-ING. C. GERNHARDTMDNCHEN DR. E. WIEGAND DR. M. KÖHLER DIPI.-ING. C. GERNHARDT

HAMBURG D1PL.-ING. ]. GlAESERHAMBURG D1PL.-ING. ]. GLASSES

DIPI.-ING. W. NIEMANN OF COUNSELDIPI.-ING. W. NIEMANN OF COUNSEL

WIEGAND NIEMANN KÖHLER GERNHARDT GLAESERWIEGAND NIEMANN KÖHLER GERNHARDT GLAESER

PATENTANWÄLTEPATENT LAWYERS Zugelassen beim Europäischen PatentamtAdmitted to the European Patent Office

TELEFON: 089-555*76/7 TELEGRAMME: KARPATENT TELEX : 529068 KARP DTELEPHONE: 089-555 * 76/7 TELEGRAMS: KARPATENT TELEX: 529068 KARP D

0-8000 MDNCHEN2 HERZOG-WILHELM-STR. 16 0-8000 MDNCHEN2 HERZOG-WILHELM-STR. 16

27. Februar 1980February 27, 1980

¥. 43 638/80 - Ko/Ne¥. 43 638/80 - Ko / Ne

Fuji Photo Film Go., Ltd. MLnami Ashigara-Shi, Kanagawa (Japan)Fuji Photo Film Go., Ltd. MLnami Ashigara-Shi, Kanagawa (Japan)

Verfahren zur Entwicklung positiv arbeitender lichtempfindlicher lithographischer DruckplattenProcess for developing positive working photosensitive lithographic printing plates

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entwicklung positiv arbeitender lichtempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer, die auch als vorsensibilisierte Platten oder einfach PS-Platten bekannt sind, insbesondere ein Verfahren zur Beibehaltung der Entwickleraktivität bei einem konstanten Wert während der automatischen Entwicklung einer grossen Anzahl von positiv arbeitenden PS-Platten mit einer lichtempfindlichen Schicht, welcheThe invention relates to a process for developing positive working photosensitive lithographic printing Printing plate precursors, also called presensitized Plates or simply PS plates are known, in particular a method for maintaining developer activity at a constant value during the automatic development of a large number of positive working PS plates with a photosensitive layer, which

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eine o-Chinondiazidverbindung als lichtempfindliches Material enthält.an o-quinonediazide compound as a light-sensitive material contains.

Die in weitestem Umfang verwendeten positiv arbeitenden PS-Platten umfassen einen Aluminiumträger mit einer darauf angebrachten lichtempfindlichen Schicht, welche eine o-Chinondiazidverbindung enthält. Die o-Chinondiazidverbindung enthält eine Struktureinheit der nachfolgenden Formel (I) und es ist auch bekannt, dass diese Verbindung, wenn sie an aktinische Strahlung ausgesetzt ist, eine carboxylhaltige Verbindung der nachfolgenden Formel (II) bildet, wozu auf 0. Süs, Liebigs Annalen der Chemie, Band 556, Seite 65 (1944-) verwiesen wird:The most widely used positive working PS plates comprise an aluminum support with a photosensitive layer applied thereon, which contains an o-quinonediazide compound. The o-quinonediazide compound contains a structural unit of the following formula (I) and it is also known that this compound, when exposed to actinic radiation, a carboxyl-containing compound of formula (II) below forms, for which reference is made to 0. Süs, Liebigs Annalen der Chemie, Volume 556, Page 65 (1944-):

C=O H₂OC = OH ₂ O

(D(D

COOHCOOH

(H)(H)

Wenn somit eine positiv arbeitende PS-Platte mit einem Aluminiumträger, welcher mit einer lichtempfindlichen, eine o-Chinondiazidverbindung enthaltende Schicht überzogen ist, an aktinische Strahlung durch ein positives Dia ausgesetzt wird, ändert sich die im belichteten Bereich der lichtempfindlichen Schicht vorliegende o-Chinondiazidverbindung zu der entsprechenden Carbonsäure. Deshalb ergibt die Entwicklung der belichteten PS-Platte mit einerThus, if a positive-working PS plate with an aluminum carrier, which is covered with a light-sensitive, an o-quinonediazide compound-coated layer is exposed to actinic radiation by a positive one When exposed to the slide, the o-quinonediazide compound present in the exposed area of the photosensitive layer changes to the corresponding carboxylic acid. Therefore, the development of the exposed PS plate with a

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wässrigen alkalischen Lösung die Entfernung lediglich des belichteten Bereiches der lichtempfindlichen Schicht, wobei die Oberfläche des Trägers in diesem Bereich freigelegt wird« Da die Oberfläche des Aluminiumträgers hydrophil ist, behält der Nicht-Bildbereich oder der Bereich,wo die Oberfläche des Trägers nach der Entwicklung freigelegt wurde, das Wasser bei und weist die bei der Lithographie eingesetzten fettartigen Druckfarben ab- Andererseits ist der Bildbereich oder der Bereich, von dem die lichtempfindliche Schicht bei der Entwicklung nicht entfernt wurde, lipophil und weist deshalb das Wasser ab und ist für die fettartige Druckfarbe aufnahmefähig.aqueous alkaline solution, the removal of only the exposed area of the photosensitive layer, whereby the surface of the carrier is exposed in this area «Since the surface of the aluminum carrier is hydrophilic, retains the non-image area or the area where the surface of the carrier was exposed after development, the water and has those used in lithography on the other hand is the image area or the area of which the light-sensitive Layer was not removed during development, is lipophilic and therefore repels water and is for the fatty Ink receptive.

-Verschiedene wässrige alkalische Lösungen sind zur .Anwendung als Entwickler für derartige positiv arbeitende P£>-Platten bekannt. Eine wässrige Lösung von Uatriumsilicat wird besonders bevorzugt, da sie nur eine geringe Tendenz zur Ätzung des Aluminiumträgers besitzt und ihre Entwicklungskapazität innerhalb eines bestimmten Bereiches gesteuert werden kann, wenn das Verhältnis von Siliciumdioxid (S1O2) zu Natriumoxid (NapO) in dem Hatriumsilicat,wobei -dieses Verhältnis allgemein als SiO^i^O-Ifolarverhältnis angegeben wird, und die Konzentrationen dieser beiden Komponenten variiert werden.-Various aqueous alkaline solutions are used as a developer for such positive working P £> plates known. An aqueous solution of sodium silicate is particularly preferred because it has little tendency to etch the aluminum support and its developing capacity can be controlled within a certain range when the ratio of silica (S1O2) to sodium oxide (NapO) in the sodium silicate, where - this ratio is commonly referred to as SiO ^ i ^ O-Ifolar ratio and the concentrations of these two components can be varied.

TJm das Erfordernis eines angepassten und standardisierten photomechanischen Verfahrens zu erfüllen, wird in weitem Umfang nunmehr eine automatische Entwicklungsmaschine in der Druckindustrie zur Behandlung von PS-Platten verwendet. Ein übliches automatisches Behandlungsgerät derjenigen Art, wo eine Behandlungslösung aufgesprüht wird, ist schematisch ±n Fig. Λ der beiliegendenIn order to meet the requirement of an adapted and standardized photomechanical process, an automatic developing machine is now widely used in the printing industry for the treatment of PS plates. A common automatic treatment device of the type where a treatment solution is sprayed is schematically ± n Fig. Λ of the enclosed

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Zeichnung erläutert. Das Behandlungsgerät umfasst einen Transportabschnitt, wo eine PS-Platte durch solche Mittel, wie IFörderrollen 1,in der Sichtung des Pfeiles 2 transportiert wird und welcher eine Mehrzahl von darüberhängenden Düsenrohren 3 aufweist. Wenn die PS-Platte transportiert wird, wird der Entwickler 5 im Tank 4 mittels einer Pumpe durch die Eohre 3 auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht gesprüht. Erforderlichenfalls kann die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht durch Bürstenwalzen (nicht gezeigt) oder ähnliche Mittel gerieben werden. Der verwendete Entwickler wird durch ein Filter 6 zur Entfernung von sämtlichen unlöslichem Material geführt, bevor er zu dem Tank 4 zurückgeführt wird. Das Behandlungsgerät hat Abfühleinrichtungen 8 zum Abfühlen des Beginns und des Endes der Behandlung der PS-Platte in der Maschine; falls diese das Einsetzen der Platte in das Behandlungsgerät feststellen, beginnt das Sprühen des Entwicklers durch die Düsen und wenn die Platte das Behandlungsgerät verlässt, wird dieses Sprühen beendet.Drawing explained. The treatment apparatus includes a transport section where a PS plate is transported by such means like I conveyor rollers 1, as seen by arrow 2 and which has a plurality of nozzle pipes 3 hanging overhead. When the PS plate is transported is, the developer 5 is in the tank 4 by means of a pump sprayed through the ears 3 on the surface of the photosensitive layer. If necessary, the surface can the photosensitive layer can be rubbed by roller brushes (not shown) or the like. The one used Developer is passed through a filter 6 to remove any insoluble material before going to the Tank 4 is returned. The treatment device has sensing devices 8 for sensing the beginning and the end the treatment of the PS plate in the machine; if they detect that the plate has been inserted into the treatment device, starts spraying the developer through the nozzles and when the plate leaves the treatment device, this spraying is stopped.

Die DE-OS 2 846 256 beschreibt ein Verfahren zur Entwicklung einer grossen Anzahl positiv arbeitender PS-Platten ohne Ersatz des Entwicklers im Tank einer automatischen Entwicklungsmaschine der vorstehend beschriebenen Art. Bei dem Verfahren wird als Entwickler eine wässrige Lösung eines Alkalisalzes mit einem Verhältnis /SiO₂/^r/ZS7 von 0,5 bis 0,75 und einer SiOp-Konzentration von Ί bis 4 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, verwendet, wobei /5iOp7 die Konzentration an SiO₂ je Volumeneinheit, angegeben als Gramm-Moleküle, und /ST die Konzentration des Alkalimetalls je Volumeneinheit, angegeben ä.s Gramm-Atome, angeben _} und zum Ausgleich der Änderung (hauptsächlich der Abnahme der Alkalinität) imDE-OS 2 846 256 describes a process for developing a large number of positive-working PS plates without replacing the developer in the tank of an automatic developing machine of the type described above. In the process, the developer is an aqueous solution of an alkali salt with a ratio / SiO ₂ / ^r / ZS7 from 0.5 to 0.75 and an SiOp concentration of Ί to 4% by weight, based on the total weight of the developer, where / 5iOp7 is the concentration of SiO ₂ per unit volume, given as gram molecules and / ST, the concentration of the alkali metal per unit volume, given ä.s gram atoms _specify} and to compensate for the change (mainly the decrease of the alkalinity) in

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J.J.

Entwickler, die durch wiederholte Entwicklung und/oder Alterung verursacht wird, wird der Entwickler mit einer wässrigen Lösung eines Alkalisilicates mit einem Verhältnis von 0,25 bis 0,75 ergänzt.Developer caused by repeated development and / or aging, the developer will use a aqueous solution of an alkali silicate with a ratio from 0.25 to 0.75 added.

Ein spezifisches Verfahren zur Zugabe dieser Ergänzung zu dem Entwickler umfasst zunächst die Entwicklung einer PS-Platte eines bestimmten Bereiches, Bestimmung durch tatsächliche Berechnung der Menge des zum Ausgleich für die entstehende Abnahme der alkalischen Komponente erforderlichen Ergänzung, so dass eine mögliche Verringerung der scheinbaren Empfindlichkeit der PS-Platte bei der anschliessenden Entwicklung verhindert wird, Umwandlung dieser I-Ienge in diejenige, die je Einheitsfläche der Platte bei der Behandlung erforderlich ist und Zugabe der Ergänzung entweder bei jeder Entwicklung in einer Menge entsprechend der Fläche der zu behandelnden PS-Platte oder in einem gegebenen Abstand, bezogen auf die durchschnittlich notwendige Menge. Jedoch wurde festgestellt, dass dieses Verfahren die folgenden Fehler zeigt: Falls eine Anzahl von PS-Platten innerhalb eines kurzen Zeitraumes entwickelt werden muss, ergibt der Zusatz einer bestimmten Menge der Ergänzung einen erhöhten Anteil der alkalischen Komponente, so dass eine scheinbare Erhöhung der Empfindlichkeit der PS-Platte verursacht wird. Falls die scheinbare Erhöhung der Empfindlichkeit sehr gross ist, nimmt die Anzahl der Wiedergaben, welche von einer aus der PS-Platte hergestellten Platte gedruckt werden können, ab oder die Platte wird weniger aufnahmefähig für die Druckfarbe. Falls andererseits lediglich eine geringe Anzahl, von PS-Platten während eines längeren Zeitraumes zu entwickeln ist, ergibt sich eine scheinbare Abnahme der EmpfindlichkeitOne specific method for adding this supplement to the developer involves first developing one PS plate of a certain area, determination by actually calculating the amount of to compensate for the resulting decrease in the alkaline component required supplement, so that a possible reduction in the apparent Sensitivity of the PS plate in the subsequent development is prevented, conversion of this length into that which is required per unit area of the plate in the treatment and addition of the supplement either in each development in an amount corresponding to the area of the PS plate to be treated or in a given one Distance, based on the average amount required. However, this procedure was found to be shows the following errors: If a number of PS plates have to be developed within a short period of time, The addition of a certain amount of the supplement results in an increased proportion of the alkaline component, so that causing an apparent increase in the sensitivity of the PS plate. If the apparent increase in the If sensitivity is very high, the number of reproductions made from one made from the PS plate decreases Plate can be printed off or the plate becomes less receptive to the printing ink. If on the other hand, only a small number of PS plates has to be developed over a longer period of time, there is an apparent decrease in sensitivity

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der PS-Platten und, falls diese Abnahme sehr gross ist, ergibt eine aus der Platte hergestellte lithographische Druckplatte eine fleckige Wiedergabe. Nach Untersuchungen im Rahmen der Erfindung sind diese Fehler auf die Tatsache zurückzuführen, dass bei dem üblichen Verfahren die festgestellte durchschnittlich notwendige Menge der Ergänzung gemeinsam sowohl von der zum Ausgleich der Abnahme der Entwickleraktivität auf Grund der Behandlung einer positiv arbeitenden PS-Platte notwendigen Menge als auch der zum Ausgleich für die Abnahme der Entwickleraktivität auf Grund des während der Aussetzung an Luft absorbierten Eohlendioxidgases in Betracht gezogen werden muß.of the PS plates and, if this decrease is very large, a lithographic printing plate made from the plate gives a spotty reproduction. After investigations In the context of the invention, these errors are due to the fact that in the usual method the determined average amount of supplement necessary in common to both of the to compensate for the decrease in the Developer activity due to the treatment of a positive working PS plate as well as the amount to compensate for the decrease in developer activity due to of carbon dioxide gas absorbed during exposure to air must be considered.

Die Hauptaufgabe der Erfindung besteht deshalb in der Vermeidung der Fehler bei dem vorstehend abgehandelten Ergänzungsverfahren.The main object of the invention is therefore to avoid the errors in what has been discussed above Supplementary procedure.

Ganz allgemeien befasst sich die Erfindung mit einem Verfahren zur konstanten Beibehaltung der Aktivität eines alkalischen Entwicklers während der Entwicklung eines bildweise belichteten positiv arbeitenden lichtempfindlichen "Materials, welches auf einem Träger eine lichtempfindliche Schicht, welche eine o-Chinondiazidverbindung enthält, angebracht hat, wobei eine erste Ergänzung mit einer höheren Alkalinität als derjenigen des zur Entwicklung verwendeten alkalischen Entwicklers zu dem Entwickler bei jeder Entwicklung des lichtempfindlichen Materials zugesetzt wird und wobei eine zweite Ergänzung mit einer höheren Alkalinität als derjenigen des Entwicklers zu dem Entwickler entweder kontinuierlich in einer bestimmten Menge oder in bestimmten Abständen in bestimmten Mengen zugesetzt wird»In general, the invention is concerned with a method for maintaining the activity of a constant alkaline developer during the development of an imagewise exposed positive working photosensitive "Material which has a photosensitive layer which contains an o-quinonediazide compound on a support, with a first supplement with a higher alkalinity than that of the one used for development alkaline developer is added to the developer each time the light-sensitive material is developed and wherein a second supplement with a higher alkalinity than that of the developer to the developer either is added continuously in a certain amount or at certain intervals in certain amounts »

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. Speziell befasst sich die Erfindung mit einem Verfahren zur Anwendung einer wässrigen Lösung eines Alkalisilicates zur Entwicklung eines bildweise belichteten positiv arbeitenden lichtempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufers mit einer lichtempfindlichen., eine o-Chinondiazidverbindung enthaltenden Schicht und bei diesem Verfahren wird (1) eine Abnahme der Aktivität des Entwicklers auf Grund der Entwicklung durch Zugabe zu dem Entwickler einer ersten Ergänzung, die aus einer wässrigen Lösung eines Alkalisilicates mit einer höheren Alkalinität als derjenigen des Entwicklers besteht, ausgeglichen und (2) eine zweite Ergänzung, die aus einer wässrigen Lösung eines Alkalisilicates mit einer höheren Alkalinität als der Entwickler besteht, zu dem Entwickler entweder (a) kontinuierlich in einer bestimmten Menge oder (b) in bestimmten Abständen in bestimmten Mengen zugesetzt.. In particular, the invention is concerned with a method for the use of an aqueous solution of an alkali silicate to develop an image-wise exposed one positive working photosensitive lithographic printing plate precursor having a photosensitive., a layer containing o-quinonediazide compound and in this method, (1) a decrease in the activity of the developer due to development by addition to the developer of a first supplement, which consists of an aqueous solution of an alkali silicate with a higher Alkalinity than that of the developer, balanced and (2) a second supplement consisting of one aqueous solution of an alkali silicate with a higher Alkalinity as the developer exists, to the developer either (a) continuously in a certain amount or (b) added at certain intervals in certain amounts.

Hoch spezifischer befasst sich die Erfindung mit den vorstehenden Verfahren, wobei jeweils der Entwickler, die erste Ergänzung und die zweite Ergänzung mindestens 20 % Kalium, bezogen auf die Granmatome sämtlicher vorhandenen Alkalimetalle, enthalten.More specifically, the invention is concerned with the foregoing methods, each of which is the developer, the first supplement and the second supplement at least 20% potassium, based on the granmatome of all present Alkali metals.

Die Fig. Λ stellt einen schematischen Querschnitt einer gewöhnlich zur Entwicklung von PS-Platten verwendeten automatischen Entwicklungsmaschine dar.Fig. 3 is a schematic cross section of an automatic developing machine commonly used for developing PS plates.

Im Rahmen der Beschreibung der Erfindung im einzelnen hat grundsätzlich die positiv arbeitende PS-Platte, worauf das Entwicklungsverfahren gemäss der Erfindung angewandt wird, auf einem Aluminiumträger eine lichtempfindliche Schicht, welche eine o-Chinondiazidverbindung enthält, angebracht.In the context of the description of the invention in detail, the positive-working PS plate basically has what the development process according to the invention is applied, a photosensitive layer on an aluminum support, which contains an o-quinonediazide compound is attached.

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Geeignete Aluminiumträger umfassen reine Aluminiumplatten und Aluminiumlegierungsplatten. Auch mit Aluminium beschichtete oder metallisierte Kunststoffolien können verwendet werden. Die Oberfläche der Aluminiumplatte wird vorzugsweise Oberflächenbehandlungen, wie Körnung, Eintauchung in eine wässrige Lösung von Uatriumsilicat, -•Ealiumfluorzirconat oder-phosphat, und/oder Anodisierung unterworfen. Andere geeignete Beispiele sind Aluminiumplatten, die zunächst gekörnt und dann in eine wässrige Hatriumsilicatlösung entsprechend der TJS-Patentschrift 2 714- 066 eingetaucht wurden, und Aluminiumplatten, die zuerst anodisiert und dann in eine wässrige Alkalisilicatlösung entsprechend der US-Patentschrift 3 181 eingetaucht wurden. Die Anodisierung wird in einem Elektrolyt, der aus mindestens einer wässrigen oder nicht-wässrigen Lösung einer anorganischen Säure, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure, oder einer organischen Säure, wie Oxalsäure oder SuIfaminsäure, oder Salzen hiervon besteht, mit einem durch eine Aluminiumanode aufgebrachten Strom ausgeführt.Suitable aluminum supports include pure aluminum plates and aluminum alloy plates. Also coated with aluminum or metallized plastic films can be used. The surface of the aluminum plate will preferably surface treatments, such as graining, immersion in an aqueous solution of sodium silicate, - • Ealium fluorozirconate or phosphate, and / or anodizing subject. Other suitable examples are aluminum plates that are first grained and then put into an aqueous Sodium silicate solution according to the TJS patent 2,714-066, and aluminum plates that were first anodized and then immersed in an aqueous alkali silicate solution corresponding to U.S. Patent 3,181 were immersed. The anodization is carried out in an electrolyte consisting of at least one aqueous or non-aqueous Solution of an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid or boric acid, or an organic one Acid, such as oxalic acid or sulfamic acid, or salts consists of this, carried out with a current applied by an aluminum anode.

Eine weitere wirksame Oberflächenbehandlung besteht in der Elektroabscheidung eines Silicates gemäss der TJS-Patent schrift 3 658 662. Ein in der vorstehenden Weise anodisierter Aluminiumträger, nachdem er elektrolytisch gekörnt wurde, wie in der US-Patentschrift 4 087 341, der britischen Patentschrift 1 208 224 und der japanischen Patentanmeldung 30503/77 beschrieben, ist gleichfalls brauchbar. Ein weiterer bevorzugter Träger besteht aus einer Aluminiumplatte, die chemisch geätzt und anodisiert ist, nachdem sie in der in der US-Patentschrift 3 834 beschriebenen Weise gekörnt wurde« Die Zwecke dieser Ober-Another effective surface treatment is the electrodeposition of a silicate according to FIG TJS Patent 3,658,662. One in the above manner anodized aluminum support after it has been electrolytically grained, as in U.S. Patent 4,087,341, British Patent 1,208,224 and Japanese Patent Application 30503/77 are also described useful. Another preferred carrier consists of an aluminum plate that is chemically etched and anodized after it is disclosed in U.S. Patent 3,834 described manner was grained «The purposes of this upper-

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flächenbehandlungen sind nicht darauf beschränkt, die Oberfläche des Trägers hydrophil zu machen, sondern andere Zwecke bestehen in der Verhinderung einer unerwünschten Heaktion mit der lichtempfindlichen, auf den Träger aufzubringenden Masse sowie in der Ausbildung eines innigen Kontaktes mit der lichtempfindlichen Schicht.Surface treatments are not limited to the surface to make the carrier hydrophilic, but other purposes are to prevent an undesirable Heaktion with the light-sensitive, to be applied to the carrier Mass and in the formation of intimate contact with the photosensitive layer.

Die auf dem Träger aufgebrachte lichtempfindliche Schicht enthält eine o-Chinondiazidverbindung. Bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind die in den US-Patentschriften 3 046 110, 3 046 111, 3 046 115, 3 046 118, 3 046 119, 3 046 120, 3 046 121, 3 046 122, 3 046 123, 3 061 430, 3 102 809, 3 106 465, 3 635 709 und 3 647 443 und zahlreichen weiteren Veröffentlichungen beschriebenen o-Chinondiazide. Diese Verbindungen können erfindungsgemäss mit Vorteil eingesetzt werden. Bevorzugte Beispiele sind o-Uaphthochinondiazid-Sulfonatester oder o-Naphthochinondiazid-Carboxylatester von aromatischen Hydroxylverbindungen. Besonders bevorzugt wird ein Pyrogallol/Aceton-Kondensat, welches mit einer o-lTaphthochinondiazidsulfonsäure verestert ist, wie in der USKPatentschrift 3 635 709 beschrieben, ein Polyester mit einer endständigen Hydroxylgruppe, welcher mit einer o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure verestert ist, wie in der TJS-Patent schrift 4 028 111 beschrieben, ein Homopolymeres von p-Hydroxystyrol oder ein Copolymeres hiervon mit einem weiteren copolymerisierbaren Monomeren, welches mit einer o-Naphthochinondiazidsulfönsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure verestert ist, wie in der US-Patentschrift 4 139 384 beschrieben.The photosensitive layer applied to the support contains an o-quinonediazide compound. Preferred o-Quinonediazide compounds are those in US patents 3 046 110, 3 046 111, 3 046 115, 3 046 118, 3 046 119, 3 046 120, 3 046 121, 3 046 122, 3 046 123, 3 061 430, 3 102 809, 3 106 465, 3 635 709 and 3 647 443 and numerous further publications described o-quinonediazides. These compounds can according to the invention with Advantage can be used. Preferred examples are o-uaphthoquinonediazide sulfonate esters or o-naphthoquinonediazide carboxylate esters of aromatic hydroxyl compounds. A pyrogallol / acetone condensate is particularly preferred, which with an o-l-taphthoquinonediazide sulfonic acid is esterified, as described in USK Patent Specification 3,635,709, a polyester having a terminal hydroxyl group which with an o-naphthoquinonediazide sulfonic acid or o-naphthoquinonediazidecarboxylic acid is esterified as described in TJS Patent 4,028,111, a homopolymer of p-hydroxystyrene or a copolymer thereof with a further copolymerizable monomer, which with an o-naphthoquinonediazide sulfonic acid or o-naphthoquinonediazidecarboxylic acid is esterified as described in U.S. Patent 4,139,384.

Diese o-Chinondiazidverbindungen können als solcheThese o-quinonediazide compounds can be used as such

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verwendet werden, werden jedoch vorzugsweise mit einem alkalilöslichen Harz vermischt und das erhaltene Gemisch wird als lichtempfindliche Schicht aufgebracht. Vorteilhafte alkalilösliche Harze umfassen phenolische ITovolakharze, beispielsweise Phenol-Formaldehydharz, o-Cresol-IOrmaldehydharz und m-Cresol-Formaldehydharz. Stärker bevorzugt können .. fliese phenolischen Harze in Kombination mit einem Kondensat eines alkyl-(C^g)-substituierten Phenols oder Cresols und Aldehyd, beispielsweise tert.-Butylphenolformaldehydharz, verwendet werden, wie in der US-Patentschrift 4- 123 279 angegeben. Diese alkalilöslichen Harze werden in die lichtempfindliche Schicht in einer Menge von etwa 50 bis etwa 85 Gew.%, vorzugsweise 60 bis 80 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Schicht_; einverleibt.are used, but are preferably mixed with an alkali-soluble resin and the resulting mixture is applied as a photosensitive layer. Advantageous alkali-soluble resins include phenolic ITovolak resins, for example phenol-formaldehyde resin, o-cresol-/ ormaldehyde resin and m-cresol-formaldehyde resin. More preferably, tile phenolic resins can be used in combination with a condensate of an alkyl (C 1-6) substituted phenol or cresol and aldehyde, e.g., tertiary butyl phenol formaldehyde resin, as disclosed in US Pat. These alkali-soluble resins are incorporated into the photosensitive layer in an amount of about 50 to about 85% by weight, preferably 60 to 80% by weight, based on the total weight of the photosensitive layer _; incorporated.

Die eine o-Chinondiazidverbindung enthaltende lichtempfindliche Schicht kann weiterhin einen Farbstoff, Plastifizierer oder andere Zusätze, wie Komponenten zur Ausbildung der Ausdruckeigenschaft (printing-out property) enthalten.The photosensitive layer containing an o-quinonediazide compound may further contain a dye, plasticizer or other additives, such as components for developing the printing-out property contain.

Die solche o-ITaphthochinondiazidverbindungen enthaltende lichtempfindliche Masse wird auf dem Träger als Lösung in einem geeigneten Lösungsmittel aufgezogen. Erläuternde Beispiele für Lösungsmittel umfassen Glykoläther, wie Äthylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonoäthyläther und 2-Methoxyäthylacetat, Ketone, wie Aceton, Methyläthyl- keton und Cyclohexanon und chlorierte Kohlenwasserstoffe, wie ÄthylendiChlorid. Das Trockengewicht der aufgezogenen lichtempfindlichen Schicht liegt im Bereich von etwaThe photosensitive composition containing such o-ITaphthoquinonediazide compounds is applied to the support as a solution in a suitable solvent. Illustrative examples of solvents include glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and 2-methoxyethyl acetate, ketones such as acetone, methylethyl ketone and cyclohexanone, and chlorinated hydrocarbons such as ethylene dichloride. The dry weight of the photosensitive layer applied is in the range of about

ρ 0,5 g bis etwa 7 g» vorzugsweise 1,5 g bis 3 g» je m des Trägers. ρ 0.5 g to about 7 g »preferably 1.5 g to 3 g» per m of the carrier.

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■/is- ³⁰⁰⁷⁴° ■ / is- ³⁰⁰⁷⁴ °

Eine Anzahl handelsüblicher lithographischer PS-Platten steht zur Verfügung und sie können bei der praktischen Ausführung der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Erläuternde Beispiele für positiv arbeitende PS-Platten sind "GAP-II", "SGP-II", "SGP-EII" der Fuji Photo Film Co., Ltd, "P-7", "P-7s", "P-3" und "P-3s" der Firma Hoechst, West-Deutschiand, und "Olympic Gold" und "Spartan" der Firma Hawthorn Allography, England.A number of commercially available PS lithographic plates are available and can be used in the practice of the present invention. Illustrative examples of positive working PS plates are "GAP-II", "SGP-II", "SGP-EII" from Fuji Photo Film Co., Ltd, "P-7", "P-7s", "P-3" and "P-3s" from Hoechst, West Germany, and "Olympic Gold" and "Spartan" the company Hawthorn Allography, England.

Wenn diese positiv arbeitenden PS-Platten durch ein bildtragendes Dia an überschüssige aktinische Strahlung von geeigneten Quellen, wie Kohlenbogenlampen, Quecksilberdampflampen, Metallhalogenidlampen, Xenonlampen und Wolframlarapen, ausgesetzt werden, wird der belichtete Teil der lichtempfindlichen Schicht alkalilöslich. Deshalb wird der belichtete Teil mit einer wässrigen alkalischen Lösung abgewaschen, so dass die hydrophile Oberfläche des Trägers an diesem Teil freigelegt wird.When these positive-working PS plates are exposed to excess actinic radiation through an image-bearing slide from suitable sources such as carbon arc lamps, mercury vapor lamps, metal halide lamps, xenon lamps, and Tungsten larapen, the exposed part of the light-sensitive layer becomes alkali-soluble. That's why the exposed part is washed off with an aqueous alkaline solution so that the hydrophilic surface of the Carrier is exposed on this part.

Ein frischer Entwickler entwickelt die positiv arbeitende PS-Platte und liefert die gewünschte geeignete Entwicklung, jedoch nimmt die Entwickleraktivität wegen der Erhöhung der Anzahl der entwickelten PS-Platten, der seit der Herstellung des Entwicklers vergangenen Zeit und auf Grund von anderen Faktoren ab. Zur Verhinderung dieser Abnahme der Entwickleraktivität wird eine Ergänzung zu dem ursprünglichen Entwickler zugesetzt.A fresh developer develops the positive working PS plate and provides the desired suitable one Development, however, decreases developer activity because of the Increase in the number of developed PS plates since the development of the past time and due to other factors. To prevent this decrease in developer activity, a supplement is used added to the original developer.

Das charakteristische Merkmal der Erfindung besteht im Verfahren der Zugabe dieser Ergänzung. Gemäss der Erfindung wird eine erste Ergänzung mit einer höheren Alkalinität als der bei der Entwicklung eingesetzte Ent-The characteristic feature of the invention resides in the method of adding this supplement. According to the Invention, a first supplement with a higher alkalinity than the one used in the development

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xäekler zu dem Entwickler entsprechend dem Entwicklungs-■behandlungs-Arbeitsgang der lichtempfindlichen Materialien zugesetzt und eine zweite Ergänzung mit einer höheren Alkalinität als der Entwickler wird zu dem Entwiekler entweder kontinuierlich in bestimmter Menge oder in bestimmten Abständen in bestimmten Mengen zugesetztexäekler to the developer according to the development ■ treatment operation of photosensitive materials added and a second supplement with a higher one Alkalinity as the developer becomes the developer either continuously added in certain amounts or at certain intervals in certain amounts

Die erste und die zweite Ergänzung werden so gewählt, dass sie eine höhere Hkalinität als der Entwickler besitzen, au dem sie zugegeben x^erden- Gemäss der Erfindung i'jird (1) die erste Ergänzung zu dem Entwickler zum Ausgleich für jede Abnahme von dessen Aktivität auf Grund des Behandlung der positiv arbeitenden PS-Platten zugesetzt und (2) die zx^eite Ergänzung wird zu dem Entwickler ©stweder (a) kontinuierlich in bestimmter Ifenge oder (b) in bestimmten Abständen in bestimmten Mengen zugesetzt. In aoch spezifischerer und stärker bevorzugter Ausführungsü©:ra der Erfindung wird ein Entwickler, eine erste Ergänzimg und eine zweite Ergänzung verwendet, die jeweils aus einer wässrigen Lösung eines Alkalisilicates bestehen, welches mindestens 20 % Kalium, bezogen auf die gesamten Grammatome sämtlicher vorliegender Alkalimetalle, enthält*The first and second additions are chosen so that they have a higher level of hality than the developer to which they are added Activity is added due to the treatment of the positive-working PS plates and (2) the second supplement is added to the developer either (a) continuously in certain amounts or (b) at certain intervals in certain amounts. In a more specific and more preferred embodiment of the invention, a developer, a first supplement and a second supplement are used, each consisting of an aqueous solution of an alkali silicate containing at least 20 % potassium, based on the total gram atoms of all alkali metals present, contains *

Der alkalische Entwickler besteht aus einer wässrigen Lösung einer anorganischen alkalischen Substanz, wie Hatriumsilicat, Kaliumsilicat₉ Natriumhydroxid₅ Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiärem Uatriumphosphat, sekundärem STatriumphosphat, tertiärem Ammoniumphosphat, sekundärem Ammoniumphosphat₉ IJFatriummetasilicat, ffatriumbiesrbonat oder Ammoniakwasser₀ Die Konzentration des anorganischen Alkalis kann im-Bereich von etwa 0,1 bis ®twa 10 Gew_o%, vorzugsweise etwa 0,5 bis etwa 5The alkaline developer is an aqueous solution of an inorganic alkaline substance such as Hatriumsilicat, potassium ₉ sodium ₅ hydroxide, lithium hydroxide, tertiary Uatriumphosphat, secondary STatriumphosphat, tertiary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate ₉ IJFatriummetasilicat, ffatriumbiesrbonat or ammonia water ₀ The concentration of the inorganic alkali can im- range of about 0.1 to 10 wt _o ®twa%, preferably about 0.5 to about 5

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liegen*, die ein anorganisches Alkali in diesen Konzentrationen enthaltenden Entwickler haben einen pH-Wert im Bereich von etwa 12,5 bis 13₅5, wie er zur Entwicklung eines positiv arbeitenden lichtempfindlichen Materials geeignet ist.*, the developers containing an inorganic alkali in these concentrations have a pH in the range from about 12.5 to 13 ₅ 5, as is suitable for developing a positive-working photosensitive material.

Jedes der Materialien Entwickler, erste und zweite Ergänzung sind in der am stärksten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine wässrige Lösung eines Alkalisilicates und enthalten mindestens 20 % Kalium, bezogen auf die gesamten Gram-Atome der gesamten in der wässrigen Lösung vorliegenden Alkaliionen. Ein Torteil der Anwendung einer wässrigen Lösung eines Silicates, welches die angegebene Menge an Kalium enthält, liegt darin, dass, selbst wenn eine grosse Anzahl positiv arbeitender PS-Platten behandelt wurde, die Lösung keinerlei unlösliches Material in dem Entwickler bildet, welches die Sprühdüsen der automatischen äEntwicklungsmaschxne und die !Filter, durch die der verwendete Entwickler zur Rückgewinnung geführt wird, verstopft. Dies stellt einen sehr überraschenden Vorteil dar, der sogar erhalten werden kann, falls eine grosse Anzahl von positiv arbeitenden PS-Platten unter Anwendung eines anodisierten Aluminiumträgers behandelt werden. Bisher zeigte diese Art von positiv arbeitenden PS-Platten den Nachteil der übermässigen Ausbildung von unlöslichem Material. Die vorstehend angegebene wässrige Lösung des Alkalisilikats enthält bevorzugt 20 bis 90 %, stärker bevorzugt 30 bis 80 %, an Kalium.Each of the developer, first and second supplement materials are, in the most preferred embodiment of the present invention, an aqueous solution of one Alkali silicates and contain at least 20% potassium, based on the total Gram atoms in the total aqueous solution present alkali ions. A portion of the application of an aqueous solution of a silicate, which contains the stated amount of potassium is that, even if a large number of positive working PS plates, the solution does not form any insoluble material in the developer which the Spray nozzles of the automatic development machines and the! filter through which the developer used for recovery is clogged. This is a very surprising benefit that is actually obtained can, if a large number of positive-working PS plates using an anodized aluminum carrier be treated. So far, this type of positive working PS plate has had the disadvantage of being excessive Formation of insoluble material. Contains the above-mentioned aqueous solution of the alkali silicate preferably 20 to 90%, more preferably 30 to 80%, of potassium.

Bevorzugte Ausgangsmaterialien für das Kalium umfassen Kaliumhydroxid, Kaliumborat, Kaliumpyrophosphat, tertiäres Kaliumphosphat, Kaliumpolyphosphat und Kalium-Preferred starting materials for the potassium include Potassium hydroxide, potassium borate, potassium pyrophosphate, tertiary potassium phosphate, potassium polyphosphate and potassium

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silicat. Diese EaIiummaterialien können einzeln oder im Gemisch verwendet werden. Es wird kaum irgendein Effekt beobachtet, falls Kali u.msalze mit einer relativ hohen Dissoziationskonstante verwendet werden, beispielsweise Kaliumchlorid, Kaliumiodid, Kaliumnitrat, Kaliumeitrat und Kaliumacetat.silicate. These EaIiummaterials can be used individually or in Mixture can be used. Hardly any effect is observed if potash and m salts with a relatively high Dissociation constant can be used, for example potassium chloride, potassium iodide, potassium nitrate, potassium citrate and potassium acetate.

Die Alkalimetalle in den AlkaliSilikaten umfassen Lithium und natrium sowie Kalium. Die bevorzugten Alkalimetalle sind Kalium und Natrium.The alkali metals in the alkali silicates include Lithium and sodium as well as potassium. The preferred alkali metals are potassium and sodium.

Ein bevorzugter Entwickler zur Anwendung im Rahmen der Erfindung besteht aus einer wässrigen Lösung eines Alkalisilicats, welches mindestens 20 % Kalium, bezogen auf die gesamten Gram-Atome sämtlicher vorliegender Alkalimetalle, enthält, ein Eolatverhältnis SiO₂ZM₂O, wobei nachfolgend mit M ein Alkalimetall angegeben ist, von 1,0 bis 1,5 (oder ein Verhältnis /fclO^//hZ von 0,5 bis O»75» worin /BiOp₃J die Konzentration an SiO₂ je Volumeneinheit, angegeben in Grammolekülen, und /RT" die Konzentration an M je Volumeneinheit, angegeben in Grammatomen, bedeuten, wobei diese Definition auch nachfolgend gilt) und welche eine Si0₂-Konzentration von 1 bis 4- Gew.% besitzt. Besonders bevorzugt wird eine wässrige Lösung eines Alkali silicates mit einem Verhältnis /SiO^/ZliZ von 0,5 bis 0,75 und einer Si0₂-Konzentration von 1 bis 3 Gew.%.A preferred developer for use in the context of the invention consists of an aqueous solution of an alkali metal silicate which contains at least 20% potassium, based on the total gram atoms of all alkali metals present, an Eolate ratio SiO ₂ ZM ₂ O, with M being an alkali metal below is given, from 1.0 to 1.5 (or a ratio / fclO ^ // hZ from 0.5 to 0 »75» where / BiOp ₃ J is the concentration of SiO ₂ per unit volume, given in gram molecules, and / RT "The concentration of M per unit volume, given in gram atoms, this definition also applies below) and which has an SiO ₂ concentration of 1 to 4% by weight. An aqueous solution of an alkali silicate with a ratio is particularly preferred / SiO ^ / ZliZ from 0.5 to 0.75 and an Si0 ₂ concentration of 1 to 3 wt.%.

Sowohl die erste als auch die zweite Ergänzungsmasse besitzen eine höhere Alkalinität als der Entwickler und sie sind aus der wässrigen alkalischen Lösung,wie sie der Entwickler darstellt, aufgebaut. Jede Ergänzung kannBoth the first and second make-up compositions have a higher alkalinity than the developer and they are composed of the alkaline aqueous solution as the developer. Any addition can

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das gleiche oder ein unterschiedliches Alkali enthalten als es in dem Entwickler enthalten ist. Alternativ kann der Aufbau jeder Ergänzung gleich oder unterschiedlich gegenüber demjenigen des Entwicklers sein.contain the same or a different alkali than it is included in the developer. Alternatively, the structure of each supplement can be the same or different be opposite that of the developer.

Die erste Ergänzung kann ein gleiches oder unterschiedliches Alkali enthalten, als es in der zweiten Ergänzung enthalten ist. Weiterhin können die beiden Ergänzungen aus der gleichen oder einer unterschiedlichen Zusammensetzung bestehen. Ergänzungen mit der gewünschten Alkalinität können hergestellt werden, indem die Konzentration des Alkalis in einem Bereich von etwa 0,5 bis 30 Gew.% eingeregelt wird.The first addition can be the same or different Contain alkali than it is in the second supplement. You can also use the two supplements consist of the same or a different composition. Supplements with the desired alkalinity can be prepared by the concentration of the alkali in a range of about 0.5 to 30 wt.% is regulated.

Besonders bevorzugte erste und zweite Ergänzungen sind jeweils wässrige Lösungen eines Alkalisilicates, welches mindestens 20 % Kalium enthält, wie vorstehend definiert, und welches ein Molarverhältnis SiO_xVIiUO von 0,5 bis 1,5 (oder ein Verhältnis 3^^/ΰά von 0,25 bis 0,75) aufweist. Diese ersten und zweiten Ergänzungen werden zu dem Entwickler zum Zweck des Ausgleiches für die Komponenten, hauptsächlich die Alkalikomponente, des Entwicklers, welche bei der Behandlung einer positivarbeitenden PS-Platte verbraucht wurden, und der Alkalikomponente, die durch das Kohlendioxidgas in der Luft neutralisiert wurde, zugegeben. Deshalb können die erste und die zweite Ergänzung sämtliche wässrigen Lösungen eines Alkalisilicate sein, welches zu dem Entwickler zugegeben ist und zur konstanten Beibehaltung der vorstehend aufgeführten Zusammensetzung des Entwicklers fähig ist, der sich sonst infolge der wiederholten Behandlung von positiv arbeitenden PS-Platten oder im Verlauf der ZeitParticularly preferred first and second supplements are each aqueous solutions of an alkali silicate which contains at least 20 % potassium, as defined above, and which has a molar ratio SiO _x VIiUO of 0.5 to 1.5 (or a ratio 3 ^^ / ΰά of 0 , 25 to 0.75). These first and second supplements are used as the developer for the purpose of balancing the components, mainly the alkali component, the developer consumed in treating a positive working PS plate and the alkali component neutralized by the carbon dioxide gas in the air, admitted. Therefore, the first and second supplements can be any aqueous solutions of an alkali silicate which is added to the developer and is capable of constant maintenance of the above-listed composition of the developer, which otherwise changes due to repeated treatment of positive working PS plates or in the course currently

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ändern würde. Spezifisch wird eine wässrige Lösung eines Alkalisilicates mit einer höheren Alkalinität als derjenigen des Entwicklers als erste und zweite Ergänzungen gemäss der Erfindung verwendet. Falls beispielsweise die erste und/oder die zweite Ergänzung eines wässrige Lösung eines Alkalisilicates mit dem gleichen Verhältnis ^iOp7//S7 slLs der Entwickler ist, kann sie so gesteuert werden, dass sie eine höhere SiC^-Konzentration als der Entwickler besitzt. Falls andererseits die erste und/oder zweite Ergänzung eine wässrige Lösung eines Alkalisilicats mit der gleichen SiOo-Konzentration wie der Entwickler ist, kann sie so gesteuert werden, dass sie ein niedrigeres Verhältnis ZßiO^/^MT" als der Entwickler besitzt. Die -arste und die zweite Ergänzung können die gleiche oder eine unterschiedliche Zusammensetzung besitzen. Sie können auch die gleiche oder eine unterschiedliche Konzentration an SiOo aufweisen.would change. Specifically, an aqueous solution becomes one Alkali silicates having a higher alkalinity than that of the developer used as first and second supplements according to the invention. For example, if the first and / or second addition of an aqueous solution of an alkali silicate with the same ratio ^ iOp7 // S7 slLs is the developer, it can be controlled that way be that they have a higher SiC ^ concentration than that Developer owns. On the other hand, if the first and / or second supplement is an aqueous solution of an alkali silicate with the same SiOo concentration as the developer, it can be controlled to be a lower one Ratio ZIO ^ / ^ MT "as the developer owns. The -arste and the second addition can be the same or one have different composition. You can also use the same or a different concentration Have SiOo.

, Für den Fachmann wird es somit leicht, die jeweiligen Zusammensetzungen von Entwickler, erster und zweiter Ergänzung zu ermitteln. Die erste oder zweite Ergänzung kann in zwei oder mehr Anteile unterteilt werden, welche kombiniert werden kötonen, wenn sie zu dem Entwickler zugesetzt werden. Alternativ kann eine konzentrierte Stammergänzung mit Wasser verdünnt werden, wenn sie zu dem Entwickler zugesetzt wird. Es ist zu betonen, dass, ganz gleich welche Zusammensetzung sie besitzt, die wässrige Lösung des Alkalisilicats, woraus der Entwickler, die erste und die zweite Ergänzung aufgebaut sind, vorzugsweise mindestens 20 % Kalium, bezogen auf die gesamten Grammatome sämtlicher vorliegender Alkalimetalle, enthalten sollte.Thus, it becomes easy for those skilled in the art to determine the respective compositions of developer, first and second supplement. The first or second supplement can be divided into two or more portions which can be combined when added to the developer. Alternatively, a concentrated stock supplement can be diluted with water when added to the developer. It should be emphasized that, whatever its composition, the aqueous solution of the alkali silicate from which the developer, the first and second supplements are made up, should preferably contain at least 20 % potassium, based on the total gram atoms of all alkali metals present .

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Falls der Entwickler, die erste und die zweite Ergänzung weniger als 20 % Ealium, bezogen auf die gesamten Grammatome sämtlicher vorliegender Alkalimetalle, enthalten, kann die Entwicklung positiv arbeitender PS-Platten von der Ausbildung von löslichem Material im Entwickler begleitet sein, welches die Sprühdüsen oder das Filter verstopft, durch welches der verwendete Entwickler zurückgewonnen wird. Deshalb ist es kritisch, dass die Konzentration des Kaliums im Entwickler stets bei 20 % oder mehr gehalten wird. Anderenfalls müssen spezielle Vorsichtsmassnahmen getroffen v/erden. Der Entwickler wird üblicherweise dem Verbraucher in konzentrierter Form geliefert und der Verbraucher verdünnt ihn mit Wasser vor der Entwicklung. Wenn eine konzentrierte wässrige Uatriumsilicatlösung mit einem Verhältnis /ßi.0-J/ßls2 von nicht mehr als 0,75 mit Wasser, welches ein zweiwertiges oder höheres Metallion, wie Calcium, Magnesium oder Aluminium, beispielsweise Wasser mit einem deutschen Härtegrad von 36°, verdünnt wird, wird die Lösung weiss und bildet einen Niederschlag, welch er das Filter einer automatischen Entwicklungsmaschine verstopft, worin diese Lösung als Entwickler verwendet wird. Im Gegensatz hierzu wird keines der Materialien, wie konzentrierter Entwickler, erste und zweite Ergänzung, wie sie erfindungsgemäss verwendet werden, weiss, selbst wenn sie mit hartem Wasser der vorstehend beschriebenen Art verdünnt werden. Demzufolge können der verdünnte Entwickler oder die Ergänzung in einer automatischen Entwicklungsmaschine ohne irgendwelche nachteiligen Effekte verwendet werden. Falls positiv arbeitende PS-Platten mit einem anodisierten Aluminiumträger in einer automatischen Entwicklungsmaschine unter Anwendung einer wässrigen Lösung von Hatriumsilicat gemäss dem üblichenIf the developer, the first and second supplements contain less than 20% Ealium, based on the total gram atoms of all alkali metals present, the development of positive-working PS plates can be accompanied by the formation of soluble material in the developer, which the spray nozzles or clogged the filter through which the used developer is recovered. Therefore, it is critical that the concentration of potassium in the developer is always kept at 20% or more. Otherwise special precautionary measures must be taken. The developer is usually supplied to the consumer in a concentrated form and the consumer dilutes it with water prior to development. If a concentrated aqueous solution of sodium silicate with a ratio /ßi.0-J/ßls2 of not more than 0.75 with water containing a divalent or higher metal ion, such as calcium, magnesium or aluminum, for example water with a German degree of hardness of 36 °, is diluted, the solution becomes white and forms a precipitate which clogs the filter of an automatic developing machine in which this solution is used as a developer. In contrast, none of the materials such as concentrated developer, first and second supplements used in the present invention become white even if they are diluted with hard water as described above. Accordingly, the diluted developer or the replenisher can be used in an automatic developing machine without any adverse effects. In case of positive working PS plates with an anodized aluminum carrier in an automatic developing machine using an aqueous solution of sodium silicate according to the usual

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Verfahren behandelt werden, wird eine grosse Menge einer weissen Abscheidung, die hauptsächlich, aus Kieselsäure besteht, auf der Oberfläche der unteren Transportwagen der Maschine gebildet. Jedoch ist diese Erscheinung bei der Entwicklung gemäss dem erfindungsgemässen Verfahren nur ganz minimal.Process treated will produce a large amount of a white deposit, mainly made up of silica is formed on the surface of the lower trolley of the machine. However, this phenomenon is at the development according to the method according to the invention is only very minimal.

Die erfindungsgemäss eingesetzten Entwickler, ersten und zweiten Ergänzungen können ein organisches Lösungsmittel enthalten. Erläuternde Beispiele für geeignete organische Lösungsmittel umfassen Benzylalkohol, 2-Butoxyäthanol, Triäthanolamin, Diäthanolamin, Monoäthanolamin, Glycerin, Äthylenglykol, Polyäthylenglykol und Polypropylenglykol. Der Entwickler, die erste oder die zweite Ergänzung können ein derartiger organisches Lösungsmittel in einer gesteuerten Menge von nicht mehr als 5 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, enthalten.The developers used according to the invention, first and second supplements may contain an organic solvent. Illustrative examples of suitable organic solvents include benzyl alcohol, 2-butoxyethanol, triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, Glycerin, ethylene glycol, polyethylene glycol and polypropylene glycol. The developer, the first or the second supplement can contain such an organic solvent a controlled amount of no more than 5% by weight based on the total weight of the developer.

Die erfindungsgemäss verwendeten Entwickler, ersten und zweiten Ergänzungen können weiterhin ein oberflächenaktives Mittel enthalten. Dies unterstützt bei der Erhöhung der Entwicklungskapazität (Menge an lichtempfindlicher Schicht, welche durch eine Volumeneinheit des Entwicklers abgewaschen werden kann) und zur Verbreiterung des Bereiches der Entwicklungsbedingungen (beispielsweise Temperatur und Behandlungszeit), welche optimale Ergebnisse erbringen. Bevorzugte oberflächenaktive Mittel umfassen anionische und amphotere oberflächenaktive Mittel. Erläuternde Beispiele für bevorzugte anionische oberflächenaktive Mittel sind Alkylbenzolsulfonsäuresalze, wobei die Alkylgruppe 8 bis 18, vorzugsweise 12 bis 16, Kohlenstoffatome enthält, wie Natriumdodecylbenzolsulfonat, Alkylnaphthalin-The developers, first and second supplements used in the present invention can further contain a surface-active agent. This assists in increasing the developing capacity (amount of photosensitive layer which can be washed off by one unit volume of the developer) and in broadening the range of developing conditions (e.g. temperature and processing time) which produce optimal results. Preferred surfactants include anionic and amphoteric surfactants. Illustrative examples of preferred anionic surface-active agents are alkylbenzenesulfonic acid salts, the alkyl group containing 8 to 18, preferably 12 to 16, carbon atoms, such as sodium dodecylbenzenesulfonate, alkylnaphthalene-

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sulfonsäuresalze, wobei die Alkylgruppe 3 bis 10 Kohlenstoff atome enthält, beispielsweise Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, Kondensate aus Formalin und einem Naphthalin sulf on säure salz, Dial kylsulfobernsteinsäuresalze, wobei die Alkylgruppe 2 bis 18 Kohlenstoffatome enthält, und Dialkylamidosulfonsäuresalze, wobei die Alkylgruppe 11 bis 17 Kohlenstoffatome enthält. Erläuternde Beispiele für bevorzugte amphotere oberflächenaktiven Kittel sind Imidazolinderivate und Verbindungen vom Betain-Typ, wie Ii-Alkyl-H",Η",N-tris-(carboxymethyl)-ammonium, wobei die Alkylgruppe 12 bis 18 Kohlenstoffatome enthält, und TJ-Alkyl-lT-carboxymethyl-lTjN-dihydroxyäthylammonium, wobei die Alkylgruppe 12 bis 18 Kohlenstoffatome enthält. Es gibt keine spezielle Begrenzung hinsichtlich der Menge des einzusetzenden oberflächenaktiven Mittels, jedoch enthält der Entwickler oder die Ergänzung allgemein derartige oberflächenaktive Mittel in einer gesteuerten Menge von 0,003 bis etwa 3 Gew.%, vorzugsweise 0,006 bis 1 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers.sulfonic acid salts, the alkyl group containing 3 to 10 carbon atoms, for example sodium isopropylnaphthalene sulfonate, Condensates from formalin and a naphthalene sulfonic acid salt, dialkyl sulfosuccinic acid salts, wherein the alkyl group contains 2 to 18 carbon atoms, and dialkylamidosulfonic acid salts, wherein the alkyl group Contains 11 to 17 carbon atoms. Illustrative examples of preferred amphoteric surfactants are Imidazoline derivatives and betaine-type compounds such as Ii-alkyl-H ", Η", N-tris- (carboxymethyl) -ammonium, where the Alkyl group contains 12 to 18 carbon atoms, and TJ-alkyl-lT-carboxymethyl-lTjN-dihydroxyethylammonium, where the alkyl group contains from 12 to 18 carbon atoms. There is no particular limit on the amount of the surfactant to be used, but the developer or the supplement generally contains such surfactants in a controlled amount of 0.003 to about 3% by weight, preferably 0.006 to 1% by weight, based on the total weight of the developer.

Die Entwickler und ersten und zweiten Ergänzungen, wie sie erfindungsgemäss verwendet werden, können weiterhin ein Entschäumungsmittel enthalten. Geeignete Entschäumungsmittel sind in den US-Patentschriften 3 250 727 und 3 54-5 970, den britischen Patentschriften 1 382 901 und 1 387 713 und v/eiteren Literatur stellen beschrieben. Organische Silanverbindungen werden bevorzugt.The developers and first and second supplements as used in the present invention can further contain a defoaming agent. Suitable defoaming agents are described in U.S. Patents 3,250,727 and 3,54-5,970, British Patents 1,382,901 and 1,387,713 and other references. Organic silane compounds are preferred.

Ein zweites charakteristisches Merkmal der Erfindung besteht im Verfahren der Zugabe der ersten und zweiten Ergänzungen, wie sie vorstehend beschrieben sind, zu dem vorstehend abgehandelten Entwickler. Eine AusführungsformA second characteristic feature of the invention resides in the method of adding the first and second Supplements as described above to the developer discussed above. One embodiment

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des Verfalirens wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Behandlung mit einer Alkalisilikatlösung in einer automatischen Entwicklungsmaschine vom Sprühtyp, wie sie in KLg. 1 gezeigt ist, beschrieben. Selbstverständlich ist das erfindungsgemasse Verfahren nicht auf diese spezielle Ausführungsform beschränkt.of the procedure is described below with reference to the Treatment with an alkali silicate solution in a spray-type automatic developing machine as shown in FIG KLg. 1 is described. Of course, the method according to the invention is not specific to this Embodiment limited.

Gemäss der Erfindung wird die erste Ergänzung zu dem Entwickler in solcher Menge zugegeben, welche die Abnahme der Entwickleraktivität auf Grund der Behandlung von bildweise belichteten positiv arbeitenden PS-Platten ausgleicht. Im Fall der Behandlung in einer automatischen Entwicklungsmaschine vom Sprühtyp ist diese Menge der Summe einer Menge C gleich, welche den Entwickler, welcher bei dem Abwaschen des belichteten Bereiches der lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte neutralisiert wurde, ausgleicht, und einer Menge A, welche den aufgesprühten Entwickler, welcher durch die Absorption von Kohlendioxidgas in der Luft neutralisiert wurde, ausgleicht. Die Bestimmung der Menge A bietet keine Schwierigkeiten in der Praxis, da sie automatisch vom Typ der automatischen Entwicklungsmaschine und der Zusammensetzung von Entwickler und erster Ergänzung bestimmt wird. Andererseits variiert die Menge (C) mit der Fläche der bildweise belichteten Teile der Platten, selbst wenn positiv arbeitende Platten derselben Herkunft in grossen Anzahl en behandelt werden. Um deshalb die Menge (C) zu bestimmen, wird der Bereich des Uicht-Bildteiles einer lithographischen Druckplatte, welche durch Entwicklung einer bildweise belichteten positiv arbeitenden PS-Platte hergestellt wurde, beispielsweise mit optischen Mitteln gemessen und ein analoges Signal für die Messung, das von einem photo elektrischen UmwandlerAccording to the invention, the first addition to the Developer added in such an amount that the decrease in developer activity due to the treatment of imagewise exposed positive working PS plates. In the case of treatment in an automatic Spray type developing machine, this amount is equal to the sum of an amount C, which is developer, which was neutralized when washing off the exposed area of the photosensitive layer of the PS plate, equalizes, and an amount A, which the sprayed developer, which has been neutralized by the absorption of carbon dioxide gas in the air. The determination the amount A presents no practical difficulties, since it automatically depends on the type of the automatic developing machine and the composition of developer and first addition is determined. On the other hand, the amount (C) varies with the area of the imagewise exposed parts of the plates, even if positive working plates of the same origin are treated in large numbers. Around therefore, to determine the amount (C), the area of the non-image part of a lithographic printing plate becomes which by developing an imagewise exposed positive working PS plate, for example measured by optical means and an analog signal for the measurement given by a photo-electric converter

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freigegeben wird, wird elektrisch, umgesetzt, so dass sich. eine Menge proportional zur gemessenen Fläche des Hicht-Bildteiles ergibt.is released, is implemented electrically, so that itself. an amount proportional to the measured area of the Hicht image part results.

Im Rahmen der Erfindung wurde nach einem einfacheren Veg der Bestimmung der Summe der I-fengen (A) und (C) gesucht und dabei gefunden, dass eine wirksame Entwicklung auch durchgeführt werden kann, indem äer entsprechend der folgenden Gleichung (I) bestimmte Wert R^(I) für die Menge der ersten Ergänzung, die nach der Behandlung jeder PS-Platte mit eir.er Einzellänge L in der Laufrichtung durch eine automatische Entwicklungsmaschine zuzugeben ist, eingesetzt wird:In the context of the invention, a simpler way of determining the sum of the I-fengen (A) and (C) was sought and found that effective development can also be carried out by according to the following equation (I) determined value R ^ (I) for the amount of first supplement to be used after treating each PS plate with a single length L in the running direction is to be added by an automatic developing machine will:

ν m - c£wn + affTn _T
R₁ Ci; = 5E₅ χ L ν m - c £ wn + affTn _T
R ₁ Ci; = 5E ₅ χ L

worin SWn das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Schichten von η Bögen von positiv arbeitenden PS-Platten, die innerhalb eines gegebenen Zeitraumes behandelt wurden, c einen Proportionalitätsfaktor, der von der Art der positiv arbeitenden PS-Platte, beispielsweise der Herkunft eines handelsüblichen Produktes, und der Zusammensetzung der ersten Ergänzung bestimmt wird, ü&Tn die gesamten Betriebs stun den der erforderlichen Besprühung für die Behandlung von η Bögen an positiv arbeitenden PS-Platten, a einen Proportionalitätsfaktor, der sich nach der Art der automatischen Entwicklungsmaschine, der Zusammensetzung der ersten Ergänzung und der Konzentration an Kohlendioxidgas in der Atmosphäre, worin die Entwicklungsmaschine arbeitet, bestimmt, %Ln die Gesamtlänge von η Bögen vonwhere SWn is the total weight of the photosensitive layers of η sheets of positive-working PS plates that have been treated within a given period of time, c is a proportionality factor that depends on the type of positive-working PS plate, for example the origin of a commercial product, and the composition of the first supplement is determined, ü & Tn the entire operating hours of the required spraying for the treatment of η arcs on positive working PS plates, a proportionality factor that depends on the type of automatic developing machine, the composition of the first supplement and the concentration Carbon dioxide gas in the atmosphere in which the developing machine operates determines % Ln the total length of η arcs of

0 3 U 0 3 6 / 0 8 5 P0 3 U 0 3 6/0 8 5 P.

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positiv arbeitenden PS-Platten in der Laufrichtung in der Entwicklungsmaschine bedeuten. Das Symbol £Wh kann als Fläche angegeben werden, wenn die behandelten PS-Platten eine lichte nipfindliche Schicht der gleichen Zusammensetzung haben, falls das gleiche Gewicht an lichtempfindlicher Schicht auf eine gegebene Fläche des Trägers aufgezogen ist.mean positive working PS plates in the running direction in the developing machine. The £ Wh symbol can be used as a Area to be specified if the treated PS panels have a light nipple layer of the same composition if the same weight of photosensitive layer is coated on a given area of the support.

Es ist günstig, wenn die Grosse und Anzahl der behandelten positiv arbeitenden PS-Platten bekannt ist, bevor die Gleichung (I) zur Bestimmung der Menge der ersten dem Entwickler zuzuführenden Ergänzung angewandt wird. Jedoch wurde im Rahmen der Erfindung auch festgestellt, dass die Aufgabe der Erfindung auch gut erzielt werden kann, wenn der Wert IL₁(I) durch die Multiplikation von L mit einem Proportionalitätsfaktor (α), welcher den Durchschnitt von darstellt, erhalten auf der Basis der angesammelten Aufzeichnung der Behandlungsarbeitsgänge, bestimmt wird. Nach diesem empirischen Verfahren ist die zuzuführende Menge der ersten Ergänzung proportional zur Länge in der Laufrichtung der zu entwickelnden positiv -arbeitenden PS-Platten. Deshalb kann dieses Verfahren leicht ausgeführt werden, indem die erste Ergänzung in einem gegebenen Ausmass zugeführt wird, sofern ein Mikroschalter und andere Abfühleinrichtungen an der automatischen Entwicklungsmaschine den Lauf einer PS-Platte durch die Förderwalzen in der Maschine feststellen.It is beneficial to know the size and number of positive working PS plates being treated before using equation (I) to determine the amount of the first supplement to be added to the developer. However, within the scope of the invention it was also found that the object of the invention can also be achieved well if the value IL ₁ (I) is obtained by multiplying L by a proportionality factor (α) which is the average of on the basis of the accumulated record of treatment operations. According to this empirical method, the amount of the first replenishment to be fed is proportional to the length in the direction of travel of the positive-working PS plates to be developed. Therefore, this method can be easily carried out by feeding the first supplement in a given amount, provided that a microswitch and other sensing devices on the automatic developing machine detect the passage of a PS plate through the feed rollers in the machine.

Die Aufgabe der Erfindung kann auch erzielt werden, indem der durch die folgende Gleichung (II) zu bestimmende Wert E^(II) für die Menge der zuzusetzenden ersten Ergänzung bei der Behandlung jeder PS-Platte mit einer Fläche von S bestimmt wird:The object of the invention can also be achieved by determining that to be determined by the following equation (II) Value E ^ (II) for the amount of the first supplement to be added when treating each PS plate with an area of S, the following is determined:

03Ü036/085-:03Ü036 / 085-:

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worin 2Sn die Gesamtfläche von η Bögen von positiv arbeitenden PS-Platten, welche innerhalb eines gegebenen Zeitraumes behandelt wurden, bedeutet und 2Wh, c, ^Tn und a die gleiche Bedeutung wie bei der Gleichung (I) besitzen.where 2Sn is the total area of η arcs of positive working PS plates which have been treated within a given period of time means and 2Wh, c, ^ Tn and a have the same meaning as in the equation (I).

Wiederum ist es günstig, wenn die Grosse und Anzahl der behandelten positiv arbeitenden PS-Platten bekannt ist, bevor die Gleichung (II) zur Bestimmung der Menge der ersten zu dem Entwickler zuzusetzenden Ergänzung angewandt wird. Jedoch kann die Aufgabe der Erfindung auch gut erzielt werden, wenn der Wert von E^(II) durch Multiplikation von S mit einem Proportionalitätsfaktor (ß) erhalten wird, welcher ^Durchschnitt von darstellt, erhalten auf der Basis angesammelten Aufzeichnung der Behandlungsarbeitsgänge. Nach diesem empirischen Verfahren wird die zuzuführende Menge der ersten Ergänzung proportional zur Fläche der -zu behandelnden positiv arbeitenden PS-Platten. Dadurch kann das Verfahren leicht verwirklicht werden, indem bei der Behandlung jeder PS-Platte die erste Ergänzung in einer Menge proportional zur Fläche der Platte zugeführt wird, welche sowohl unter Anwendung von Massnahmen zur Feststellung des Laufes der PS-Platte als auch von Massnahmen zur Feststellung der Querlänge der Platte berechnet wird. Dieses Verfahren ergibt eine einheitliche Entwicklung, da hier eine höhere Genauigkeit der Entwicklerergänzung ist, als sie mit dem vorstehenden Verfahren erhalten wird, wobei die erste Ergänzung in einer Menge proportionalAgain, it is beneficial if the size and number of positive working PS plates treated is known before equation (II) is used to determine the amount of the first supplement to be added to the developer. However, the object of the invention can also be well achieved when the value of E ^ (II) is obtained by multiplying S by a proportionality factor (β) which is the average of obtained on the basis of the accumulated record of treatment operations. By this empirical method, the supplied amount of the first addition is proportional to the area of -to treated positive-working PS plates. As a result, the method can be easily implemented in that, during the treatment of each PS plate, the first supplement is supplied in an amount proportional to the area of the plate, which both measures to determine the movement of the PS plate and measures to determine the transverse length of the plate is calculated. This method gives a uniform development because there is a higher accuracy of the developer replenishment than that obtained with the above method, the first replenishment being proportional in an amount

020036/085?020036/085?

zur Länge in Richtung des PS-Plattenlaufes in der automatischen Entwicklungsmaschine zugesetzt wird.to the length in the direction of the PS disk run in the automatic Developing machine is added.

Ein Alternatiwerfahren besteht in der Bestimmung der Zufuhr der ersten Ergänzung auf der Basis von 2-v;ei unabhängigen Faktoren, nämlich der Menge proportional zur Länge L in der Laufrichtung der positiv arbeitenden PS-Platte und der Menge proportional zur Sprühbearbeitungszeit T. Hierzu wird die Gleichung (I) erweitert und umgeordnet, so dass sich die folgende Gleichung (I¹) ergibt:An alternative method consists in determining the supply of the first supplement on the basis of 2-v; ei independent factors, namely the amount proportional to the length L in the direction of travel of the positive-working PS plate and the amount proportional to the spray processing time T. For this purpose, the Equation (I) expanded and rearranged so that the following equation (I ¹ ) results:

* I + aT , (I')* I + aT, (I ')

worin 1E.wh, c, "2.Ln und a die gleiche Bedeutung wie in der Gleichung (I) besitzen.where 1E.wh, c, "2.Ln and a have the same meaning as in the Have equation (I).

Palls der Durchschnitt (α') von durch Berechnung aus den angesammelten Werten der Behandlungsarbeitsgänge bekannt ist, kann die erste Ergänzung in einem gegebenen Ausmass zugeführt werden, sofern ein Mikrοschalter oder eine andere Ab fülleinrichtung an der automatischen Entwicklungsmaschine den Lauf einer PS-Platte durch die
3?örderwalzen in der Maschine feststellt, während gleichzeitig der Schalter mit einem Sprühbetätigungsmechanismus so gekuppelt sein kann, dass die erste Ergänzung in einem anderen Ausmass zugesetzt wird, sofern die Besprühung
in Betrieb ist. Der Vorteil dieses Alternatiwerfahrens besteht in seiner Eignung zur Sicherstellung einer noch höheren Genauigkeit der Ergänzung als bei dem Verfahren auf der Basis von Gleichung (I), da bei diesem Alternativverfahren die Menge des aufgesprühten Entwicklers, derIf the average (α ') of is known through calculation from the accumulated values of the treatment operations, the first supplement can be supplied in a given amount, provided that a microswitch or other filling device on the automatic developing machine allows a PS plate to run through the
3?
is in operation. The advantage of this alternative method consists in its suitability for ensuring an even higher accuracy of the completion than in the case of the method based on equation (I), since in this alternative method the amount of developer sprayed on, the

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3007A013007A01

sich durch. Absorption von Kohlendioxid in der Luft schädigt, als unabhängiger !Faktor betrachtet wird, der durch die erste Ergänzung ausgeglichen werden soll.through. Absorption of carbon dioxide in the air harms, is considered an independent factor to be offset by the first addition.

Das gleiche Konzept kann angewandt werden und liefert ein Verfahren, welches eine !Modifikation des Verfahrens auf der Basis der Gleichung (II) ist, welches jedoch eine noch höhere Genauigkeit der Ergänzung auf der Basis von zwei unabhängigen Faktoren sicherstellt, nämlich der Menge proportional zur Fläche S der PS-Platte und der Menge proportional zur Sprüharbeitszeit T. Hierzu wird die Gleichung (II) erweitert und unigeordnet, so dass sich die nachfolgende Gleichung (II¹) ergibt:The same concept can be applied and provides a method which is a modification of the method based on equation (II), but which ensures an even higher accuracy of the completion based on two independent factors, namely the amount proportional to the area S of the PS plate and the amount proportional to the spraying work time T. For this purpose, equation (II) is expanded and disordered so that the following equation (II ¹ ) results:

+ aT , (II·)+ aT, (II)

worin 5-.Wn, c und a jeweils die gleiche Bedeutung wie in der Gleichung (I) besitzen und "SSn die gleiche Bedeutung wie in der Gleichung (II) besitzt.where 5-.Wn, c and a each have the same meaning as in of equation (I) and "SSn" have the same meaning as in equation (II).

Wie vorstehend abgehandelt, kann die erste Ergänzung bei der Behandlung jeder positiv arbeitenden PS-Platte zugesetzt werden. Anstelle dessen kann die Zufuhr der ersten Ergänzung fortgesetzt werden, bis sie einen bestimmten Wert erreicht, worauf die erste Ergänzung, welche diesen Wert ausgleicht, zugesetzt werden kann.As discussed above, the first supplement in the treatment of any positive working PS plate can be added. Instead, the first supplement can be taken until it reaches a certain level Value reached, whereupon the first supplement, which compensates for this value, can be added.

Die zweite Ergänzung gleicht den durch das Kohlendioxid in der Luft neutralisierten Entwickler aus, während der Entwickler in der Entwicklungsmaschine steht. Wie die vorstehende Gleichung (I) zeigt, gleicht die erste Ergän-The second supplement balances the developer neutralized by the carbon dioxide in the air while the developer is in the developing machine. As the above equation (I) shows, the first addition equals

3 0 0 3 6/085(13 0 0 3 6/085 (1

zung die Neutralisation aus, welche sich während der Entwicklung und während des Sprüharbeitsganges einstellt, und ist somit eine getrennte und unterschiedliche Funktion von derjenigen der zweiten Ergänzung. Durch die -Anwendung von zwei Ergänzungen gemäss der Erfindung kann die Aktivität des Entwicklers weit genauer und weit enger gesteuert juerden, was wiederum bedeutet,.dass eine kontinuierliche Entwicklung von äusserst hoher Qualität ermöglicht wird. Dies ist nicht der Fall, falls lediglich eine Ergänzung angewandt wird.the neutralization that occurs during development and adjusts during the spraying process, and is thus a separate and distinct function from that of the second supplement. Through the application With two supplements according to the invention, the activity of the developer can be controlled far more precisely and far more closely juerden, which in turn means .that a continuous Development of extremely high quality is made possible. This is not the case if only a supplement is used.

Die zuzusetzende Menge des zweiten Entwicklers beim erfindungsgemassen Verfahren ist proportional zu derjenigen Zeit, wo sich der Entwickler im Entwicklungstank befindet und COp absorbiert und der Proportionalitätsfaktor (b) wird von der Art der autosnatisehen Entwicklungsmaschine, der Menge des an die Luft ausgesetzten Entwicklers, der Zusammensetzung der zweiten Ergänzung und der Konzentration von Kohlendioxidgas in der Atmosphäre, worin die Mas chine eingesetzt wird, bestimmt. Bei einem bestimmten Faktor (b) kann somit die zweite Ergänzung entweder kontinuierlich in einer gegebenen Ifenge oder in festgesetzten Abständen in gegebenen Mengen zugesetzt werden. Zur kontinuierlichen Ergänzung kann eine Messpumpe oder chemische Zufuhrpumpe verwendet werden, und für die intermittierende Ergänzung kann selbstverständlich ein Messbecher verwendet werden, jedoch ist ein günstigeres Verfahren die Kupplung einer Abmesspumpe mit einem Zeitgeber, welcher die Zufuhr einer gegebenen Menge der Ergänzung in gegebenen Abständen ergibt. The amount of the second developer to be added in the method of the present invention is proportional to that Time where the developer is in the development tank and absorbs COp and the proportionality factor (b) is based on the type of autosnati developing machine, the amount of developer exposed to air, the Composition of the second supplement and the concentration of carbon dioxide gas in the atmosphere in which the machine is used. With a certain factor (b), the second addition can either be continuous be added in given amounts or at given intervals. For continuous A metering pump or chemical feed pump can be used for supplementation, and for intermittent supplementation A measuring cup can of course be used, but a more economical method is to couple a Metering pump with a timer that provides for the delivery of a given amount of the supplement at given intervals.

Die Proportionalitätsfaktoren (a), (b) und (c) könnenThe proportionality factors (a), (b) and (c) can

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30074Ü130074Ü1

nach dem folgenden Verfahren bestimmt werden. Wie bereits angegeben, werden dieso Faktoren aus einer spezifischen Kombination von Entwickler, erster Ergänzung, zweiter Ergänzung und automatischer Entwicklungsmaschine sowie äen spezifischen Umgebungen für die Behandlung einer spezifischen Art einer positiv arbeitenden PS-Platte bestimmt. Deshalb sollten die Lieferer von automatischen Entwicklungsmaschinen und Behandlungsmitteln diese Faktoren auf der Basis von Kombinationen vorbestimmen, welche sie für ein Behandlungsgerät empfehlen, und zwar in der folgenden Weise.can be determined by the following procedure. As already stated, these are factors from a specific Combination of developer, first addition, second addition, and automatic developing machine as well in specific environments for the treatment of a specific type of positive working PS plate. Therefore, the suppliers of automatic developing machines and processing agents should take these factors into account Predetermine the basis of combinations that you recommend for a treatment device, namely in the following Way.

Zunächst wird eine positiv arbeitende PS-Platte, jeweils aus einem spezifischen lichtempfindlichen Material aufgebaut, hergestellt (Überzugsgewicht: X g/Platte). Eine spezifische automatische Entwicklungsmaschine wird mit einem spezifischen Entwickler beschickt, wobei die Standardbeschickung desselben H Liter beträgt. Die PS-Platten werden in der Entwicklungsmaschine mit der Besprühung behandelt, die kontinuierlich arbeitet. Wenn jeweils das lichtempfindliche Material in dem Entwickler in einer Menge von 1 bis 2 g je Liter des Entwicklers gelöst ist, wird die Abnahme der Plattenempfindlichkeit durch Behandlung einer positiv arbeitenden PS-Platte, auf welche ein PS-Stufenkeil (Grauskala der Fuji Photo Film Co., Ltd.) gedruckt wurde, geprüft. Falls die Abnahme der Empfindlichkeit etwa eine Stufe niedriger als äie Empfindlichkeit bei Beginn der Entwicklung ist, wird der Entwickler ergänzt, bis die Anfangsempfindlichkeit erhalten ist. Falls die Anfangsempfindlichkeit wieder gewonnen ist, wird die Behandlung wieder begonnen. DerFirst, a positive working PS plate, each made of a specific photosensitive material built up, produced (coating weight: X g / plate). A specific automatic developing machine is charged with a specific developer, the Standard loading of the same H liter is. The PS plates are sprayed in the developing machine treated that works continuously. When each of the photosensitive material in the developer in an amount of 1 to 2 g per liter of the developer is solved, there will be a decrease in plate sensitivity by treating a positive-working PS plate on which a PS step wedge (gray scale of the Fuji Photo Film Co., Ltd.) was checked. If the decrease in sensitivity is about one notch lower than If the sensitivity is at the beginning of the development, the developer is replenished until the initial sensitivity is preserved. If the initial sensitivity is regained, the treatment is started again. Of the

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Entwickler wird ergänzt, wenn eine weitere Abnahme der Empfindlichkeit um etwa eine Stufe sich einstellt. Dieses Verfahren wird wiederholt und, falls sH/X-Pl atten, worin s ein geschätztes Gewicht des lichtempfindlichen Materials je Entwicklerbeschickungseinheit, die einem gegebenen System der Behandlungsmittel behandelbar ist, darstellt, behandelt wurden, wird die Gesamtmenge an zugeführter Ergänzung Mx während des laufenden Versuches ermittelt. Die Laufzeit für diesen ersten Arbeitsgang beträgt Tx.Developer is added when there is a further decrease in sensitivity by about one notch. This The procedure is repeated and, if sH / X plates, where s is an estimated weight of the photosensitive Materials per developer charge unit, which one given system the treatment agent is treatable, represents, have been treated, the total amount is given added supplement Mx determined during the ongoing experiment. The running time for this first pass is Tx.

Bei dem zweiten Laufversuch wird eine gleiche automatische Entwicklungsmaschine wie beim ersten laufversuch mit H Litern eines Entwicklers der gleichen Zusammensetzung wie beim ersten Lauf beschickt und kontinuierlich die Maschine zur Behandlung von PS-Platten (Überzugsgewicht: X g) von der gleichen Art wie beim ersten Lauf verwendet wurden, in der gleichen Weise wie beim ersten Lauf betrieben. Hachdem sH/X Platten behandelt wurden, wird die gesamte Zufuhr der Ergänzung My ermittelt. Es ist günstig, wenn die zweite Laufzeit Ty weit kurzer als Tx ist.-Beim dritten Lauf wird der üblichen Praxis zur Behandlung von PS-Platten (Überzugsgewicht X g) der gleichen Art wie beim ersten Lauf verwendet wurden, gefolgt, wobei die Besprühung in der Entwicklungsmaschine lediglich dann erfolgt, wenn die Platten behandelt werden. Wenn sH/X Platten behandelt wurden, wird die Sprühbetätigungszeit Ts, die Gesamtlaufzeit Tz (einschliesslich der Sprühbetätigungszeit) und die Gesamtzufuhr an Ergänzung Mz ermittelt. Es ist günstig, wenn Ts weit kurzer als Tz ist und vorzugsweise Ts etwa die Hälfte von Tz beträgt. Die Proportionalitätsfaktoren (a), (b) und (c) für den Fall,On the second run, the same automatic Developing machine as in the first attempt with H liters of a developer of the same composition loaded as in the first run and continuously the machine for the treatment of PS panels (coating weight: X g) of the same type as used in the first run, in the same way as in the first Run operated. After sH / X panels have been treated, the total intake of the supplement My is determined. It is favorable if the second term Ty is much shorter than Tx is.-During the third run, the usual practice for handling PS panels (coating weight X g) is the the same manner as used in the first run was followed, with the spray in the developing machine only occurs when the panels are treated. When sH / X plates have been treated, the spray actuation time becomes Ts, the total running time Tz (including the spray actuation time) and the total intake of supplement Mz is determined. It is beneficial if Ts is much shorter than Tz and preferably Ts is about half of Tz. The proportionality factors (a), (b) and (c) for the case

030036/0850030036/0850

wo sowohl die erste als auch die zweite Ergänzung die gleiche Zusammensetzung besitzen, können ermittelt werden, indem in die folgenden Gleichungen die jeweiligen in den drei Laufversuchen erhaltenen Werte eingesetzt werden:where both the first and the second supplement have the same composition, it can be determined by inserting the respective values obtained in the three running tests into the following equations:

^a ~ ^a ~

Tz ( Mx-My )+Tx(My-Mz )+Ty (Mz-Kx) (.Tx-Ty) CTz-Ts) Tz (Mx-My) + Tx (My-Mz) + Ty (Mz-Kx ) (.Tx-Ty) CTz-Ts)

- foffig - MxTy
^c ~ sHCTx - Ty)- foffig - MxTy
^c ~ sHCTx - Ty)

Falls die zweite Ergänzung eine unterschiedliche Zusammensetzung gegenüber der ersten Ergänzung hat, wird die erste Ergänzung nach den vorstehend bestimmten Faktoren (a) und (c) zugeführt und die Abnahme der Empfindlichkeit wird alle ein oder zwei Stunden geprüft. Falls irgendeine Abnahme festgestellt wird, wird die zweite Ergänzung zum Ausgleich desselben zugeführt. In dieser Weise wird jede Abnahme der Empfindlichkeit im Verlauf der Zeit durch die zweite Ergänzung während des LaufVersuches der Behandlung ausgeglichen. Die Gesamtzufuhr der zweiten Ergänzung Mw wird durch die Gesamtlaufzeit Tw dividiert und der Quotient (Mw/Tw) ist der Proportionalitätsfaktor (b) für die Zuführung der zweiten Ergänzung.If the second supplement has a different composition than the first supplement, will the first supplement fed according to factors (a) and (c) determined above and the decrease in sensitivity is checked every hour or two. If any decrease is noted, the second Supplement to compensate for the same supplied. In this way, any decrease in sensitivity over the course of the Time through the second supplement during the run attempt the treatment balanced. The total intake of the second supplement Mw is divided by the total running time Tw and the quotient (Mw / Tw) is the proportionality factor (b) for the addition of the second supplement.

Bei der praktischen Ausführung der Erfindung ist es vorteilhaft, falls die Behandlung während mehrerer Stunden unterbrochen wird, auch die Zufuhr der zweiten ErgänzungWhen practicing the invention, it is advantageous if the treatment lasts for several hours is interrupted, including the supply of the second supplement

030036/0850030036/0850

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auszusetzen- Vor dem Wiederbeginn der Entwicklung wird die Aktivität des Entwicklers in dem Entwicklungstank geprüft und eine ausreichende Menge der zweiten Ergänzung zugeführt, so dass die gewünschte Aktivität wiedergewonnen wird. Spezifisch wird eine positiv arbeitende PS-Platte durch einen Stufenkeil unter Standardbedingungen belichtet, _die .belichtete Platte entwickelt, die Anzahl an festen schwarzen Stufen zur Kenntnis des Ausmasses des Verlustes der Entwicklungsaktivität gezählt und eine ausreichende Menge der zweiten Ergänzung zum Ausgleich dieses Verlustes zugeführt.Suspend- Before restarting development will checked the activity of the developer in the developing tank and a sufficient amount of the second supplement fed so that the desired activity is regained will. Specifically, a positive-working PS plate is exposed through a step wedge under standard conditions, _the .exposed plate developed the number of fixed black levels for knowledge of the extent of the loss of developmental activity are counted and sufficient Amount of the second supplement added to compensate for this loss.

Wie sich aus der vorstehenden Beschreibung ergibt, wird beim erfindungsgemassen Verfahren die Entwickleraktivität durch Zusatz von ersten und zweiten Ergänzungen konstant gehalten. Deshalb ist es günstig, dass Massnahmen gegen zeitabhängige Schädigung der beiden Ergänzungen getroffen werden. Spezifisch werden die ersten und zweiten Ergänzungen vorzugsweise in luftdichten Behältern gelagert, um einen Eontakt mit Ebhlendioxidgas zu vermeiden. As is apparent from the above description, in the method of the present invention, the developer activity becomes kept constant by adding first and second supplements. That is why it is beneficial to take action against time-dependent damage to the two supplements. The first and Second supplements are preferably stored in airtight containers in order to avoid contact with carbon dioxide gas.

Es ergibt sich somit ein Verfahren zur Anwendung einer wässrigen Lösung eines Alkalisilicates zwecks Entwicklung eines bildweise belichteten positiv arbeitenden lichtempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufers mit einer eine o-Chinondiazidverbindung enthaltenden lichtempfindlichen Schicht, wobei (i) eine Abnahme der Aktivität des Entwicklers auf Grund der Entwicklung durch Zusatz zu dem Entwickler einer ersten Ergänzung, die aus einer wässrigen Lösung mit einer höheren Alkalinität als derjenigen des Entwicklers aufgebaut ist, ausgeglichen wirdThere is thus a method for using an aqueous solution of an alkali silicate for the purpose Development of an imagewise exposed positive working photosensitive lithographic printing plate precursor with a photosensitive containing an o-quinonediazide compound Layer, wherein (i) a decrease in the activity of the developer due to development by addition to the developer of a first supplement made from an aqueous solution with a higher alkalinity than that of the developer is built up, is balanced

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3b·3b

30073007

4040

und (2) eine zweite Ergänzung, die aus einer wässrigen Lösung mit einer höheren Alkalinität als der Entwickler aufgebaut ist, zu dem Entwickler entweder (a) kontinuierlich in einer bestimmten Menge oder (b) in bestimmten Abständen in bestimmten Mengen zugesetzt wird.and (2) a second supplement consisting of an aqueous solution with a higher alkalinity than the developer is built up, to the developer either (a) continuously in a certain amount or (b) at certain intervals is added in certain amounts.

Wie vorstehend abgehandelt _y wird beim erfindungsgemässen "Verfahren die Abnahme der Entwickler aktivität auf Grund der Behandlung von positiv arbeitenden PS-Platten unabhängig von dem Ausgleich des Aktivitätsverlustes auf Grund der verlaufenen Zeit ausgeglichen. Aus diesem Grund stellt die Erfindung einen konstanten Wert der Entwickleraktivität unabhängig von der Anzahl der behandelten positiv arbeitenden PS-Platten innerhalb eines gegebenen Zeitraumes sicher. Im Ergebnis stellt sich ein stabiler Behandlungsarbeitsgang ein, der eine einheitliche Entwicklung während eines langen Zeitraumes ohne Ersatz des ursprünglichen Entwicklers im Entwicklungstank einer automatischen Entwicklungsmaschine ergibt.As discussed above _y , in the method according to the invention, the decrease in developer activity due to the treatment of positive-working PS plates is compensated for independently of the compensation for the loss of activity due to the elapsed time. For this reason, the invention provides a constant value for developer activity regardless of the number of treated positive-working PS plates within a given period of time, and as a result, a stable processing operation is established which gives uniform development over a long period of time without replacing the original developer in the developing tank of an automatic developing machine.

Als weiterer Torteil ist sowohl der Entwickler als auch die erste und zweite Ergänzung,wie sie im Rahmen der Erfindung eingesetzt werden, aus einer wässrigen Lösung eines Alkalisilicats mit dem Gehalt spezifischer Mengen an Kalium aufgebaut und infolgedessen wird im Entwickler kein unlösliches Material gebildet, welches die Sprühdüsen oder Filter der automatischen Entwicklungsmaschine verstopft. Dieser Vorteil in Verbindung mit den vorstehend angegebenen getrennten Ausgleichen des Entwickleraktivität sverlustes liefert eine einheitlicher Entwicklung während noch längerer Zeiträume.Another part of the door is the developer as well as the first and second additions, as they are in the context of the Invention are used, from an aqueous solution of an alkali silicate with the content of specific amounts built up of potassium and consequently no insoluble material is formed in the developer, which the spray nozzles or the filter of the automatic processor is clogged. This advantage in conjunction with the above indicated separate balancing of developer activity s loss provides a uniform trend over even longer periods of time.

030036/0850030036/0850

Die Erfindung wird nachfolgend im einzelnen anhand der Beispiele erläutert, worin, falls nichts anderes angegeben ist, sämtliche Px-ozentsätze auf das Gewicht bezogen sind.The invention is explained in detail below with reference to the examples, in which, unless otherwise stated is, all Px percentages are by weight are.

example 1

Eine 2S-Aluminiumplatte mit einer Stärke von 0,24 mm wurde durch Eintauchen derselben während 3 Minuten in eine 10%ige wässrige Lösung von tertiärem Natriumphosphat, die bei 80° C gehalten wurde, entfettet. Nach der Körnung mit einer Nylonbürste wurde die Platte mit Natriumaluminat während ΊΟ Sekunden geätzt und in einer 3%igen wässrigen Natriumhydrogensulfatlösung entschmutzt. Die in dieser Weise behandelte Aluminiumplatte wurde in 20%iger Schwefelsäure bei einer Stromdichte von 2 A/dm anodisiert, bisA 2S aluminum plate with a thickness of 0.24 mm was made by immersing it in a for 3 minutes 10% aqueous solution of tertiary sodium phosphate, the was kept at 80 ° C, degreased. After the grit with a nylon brush was used to wash the plate with sodium aluminate Etched for ΊΟ seconds and immersed in a 3% aqueous Sodium hydrogen sulfate solution soiled. The one in this Wise treated aluminum plate was anodized in 20% sulfuric acid at a current density of 2 A / dm until

ein Oxidüberzug von 2,5 g Ö^e m gebildet worden war.an oxide coating of 2.5 g Ö ^e m had been formed.

Der in dieser Weise hergestellte Träger wurde mit einer lichtempfindlichen Lösung der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung überzogen und getrocknet, so dass eine positiv arbeitende PS-Platte mit einer lichtempfindlichen Schicht von einem Trockengewicht von 2,5 g/m erhalten wurde.The support thus prepared was coated with a photosensitive solution as shown below Composition coated and dried, leaving a positive working PS plate with a photosensitive Layer with a dry weight of 2.5 g / m 2 was obtained.

Photosensitive. solution

Veresterungsprodukt aus Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid und Pyrogallol/Acetonharz (wie in Beispiel 1 der US-Patentschrift 3 635 709 .. beschrieben) 0,63 SEsterification product from naphthoquinone- (1,2) -diazide- (2) -5-sulfonic acid chloride and pyrogallol / acetone resin (as in Example 1 of US Pat. No. 3,635,709 .. described) 0.63 p

Cresol-Novolakharz · 1,98 gCresol novolak resin x 1.98 g

030036/0850030036/0850

- 35 -- 35 -

p-tert.-Butylphenolharz 0,05 gp-tert-butylphenol resin 0.05 g

Te tr ahydr oplitlial säure anhy dri ά 0,15 g Te tr ahydr oplitlial acid anhy dri ά 0.15 g

Thymolblau 0,04 gThymol blue 0.04 g

Jtfaphthochinon- (1,2)-äiazid- (2)-4-sulf on-Jtfaphthoquinone- (1,2) -aiazide- (2) -4-sulfon-

säurechlorid 0,03 gacid chloride 0.03 g

Äthylendichlorid 18 gEthylene dichloride 18 g

2-Methoxyäthylacetat 12 g2-methoxyethyl acetate 12 g

Eine automatische Entwicklungsmaschine "I3OO ETJ" (Produkt der Puji Photo Film Co., Ltd. zur Entwicklung von PS-Platten) mit dem in Fig. 1 gezeigten Aufbau wurde mit 21 Liter einer auf das Volumen bezogen 7-fachen wässrigen Verdünnung (pH 13,10) einer Stammlösung der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung beschickt.An automatic developing machine "I3OO ETJ" (Product of Puji Photo Film Co., Ltd. for development of PS plates) with the structure shown in Fig. 1 was a 7-fold with 21 liters based on the volume aqueous dilution (pH 13.10) of a stock solution of the composition given below.

Composition: the stock solution (developer)

Wässrige Lösung von NatriumsilicatAqueous solution of sodium silicate

gemäss JIS Ur. 3 (enthaltend 29,5 %according to JIS Ur. 3 (containing 29.5%

SiO₂ und 9,5 % Na₂O) 332 gSiO ₂ and 9.5% Na ₂ O) 332 g

Wässrige Ealiumhydroxidlösung (48 %) 191 SAqueous solution of potassium hydroxide (48 %) 191 S

Wässrige Lösung von ΙΓ-Alkyl-IT,H-dihydroxyäthylbetain als amphoterem oberflächenaktivem Mittel (36 %) 3,2 gAqueous solution of ΙΓ-alkyl-IT, H-dihydroxyethyl betaine as an amphoteric surfactant Medium (36%) 3.2 g

"Amogen K" als Antischäumungsmittel"Amogen K" as an anti-foaming agent

(organische Siliconcerbindung der Dai-ichi(organic silicone compound of the Dai-ichi

Eogyo Seiyaku Co., Ltd.) 0,72 gEogyo Seiyaku Co., Ltd.) 0.72 g

Wasser 688 gWater 688 g

Eine Stammlösung der folgenden Zusammensetzung wurde auf das 5-fache Volumen mit Wasser verdünnt, um die ersten und zweiten Ergänzungen (pH 13,4-1) zu erhalten, die zu den geweiligen Ergänzungstanks geführt wurden, welche an der automatischen Entwicklungsmaschine angebracht waren.A stock solution of the following composition was diluted 5 times in volume with water to obtain the first and second supplements (pH 13.4-1), which were fed to the respective supplement tanks attached to the automatic developing machine.

0 30036/08 500 30036/08 50

Composition of the stock solution; (Complement)

Wässrige Lösung von Uatriumsilicat gemässAqueous solution of sodium silicate according to

JIS Fr. 3 238 gJIS Fr. 3,238 g

Wässrige Kaliumhydroxidlösung (48 %) 328 g Wasser 64-5 £Aqueous potassium hydroxide solution (48 %) 328 g water 64-5 pounds

-Die Entwicklungstemperatur wurde auf 35 C eingestellt und die automatische Entwicklungsmaschine wurde so eingestellt, dass sie 50 Sekunden zur Entwicklung einer Mn durchgehenden positiv arbeitenden PS-Platte brauchte. Die in dieser Weise eingeregelte Entwicklungsmaschine wurde mit 30 bildweise belichteten positiv arbeitenden PS-Platten (Grosse 639 χ 939 mm, hergestellt in der vorstehenden Weise) gespeist, welche in geeigneten Abständen im Verlauf von 6 Stunden behandelt wurden. Der Entwickler wurde mit 390 ml der zweiten Ergänzung g'ede Stunde seit Beginn der Entwicklung versorgt, während der Entwickler mit 37 ml der ersten Ergänzung bei der Behandlung jeder PS-Platte versorgt wurde. Die 30 Platten wurden zu praktisch gleichem Ausmass entwickelt und diese Tatsache belegt, dass die Aktivität des. Entwicklers während der Behandlung praktisch konstant gehalten wurde. Das auf jede PS-Platte aufgedruckte Stufentablett (mit 15 Stufen, wobei die erste eine optische Dichte von 0,10 mit einer Dichte von 0,15 als Differenz zwischen zwei benachbarten Stufen hatte) zeigte einen Unterschied von weniger als einer Stufe zwischen der Anzahl der dichten schwarzen Stufen bei den mit den gebrauchten und den frischen Entwicklern behandelten Platten.-The development temperature was set to 35 ° C and the automatic developing machine was set to take 50 seconds to develop an Mn continuous positive working PS plate needed. The developing machine controlled in this way became positive with 30 imagewise exposed working PS plates (size 639 χ 939 mm, manufactured in the above way) fed, which in suitable Treated at intervals of 6 hours. The developer was given 390 ml of the second supplement Hour since the start of development, while the developer took 37 ml of the first supplement during treatment every PS plate was supplied. The 30 plates were developed to practically the same extent and this fact proves that the activity of the developer was kept practically constant during the treatment. That on step tray printed on each PS plate (with 15 steps, the first having an optical density of 0.10 with a density of 0.15 as the difference between two adjacent ones Levels) showed less than a level difference between the number of dense black levels in the plates treated with the used and fresh developers.

!fach der Behandlung während 6 Stunden wurden Entwickler und Ergänzungen im automatischen Entwickler 18 Stundentimes of treatment for 6 hours became developers and additions in the automatic developer 18 hours

stehengelassen. Vor dem Wiederbeginn der Entwicklung wurden die positiv arbeitenden PS-Platten, wobei auf jede ein Stufentablett aufgedruckt war, behandelt und ps zeigte sich, dass die Entwickleraktivität abgenommen hatte. Deshalb wurden 3»4- Liter der Ergänzung zugeführt. Dieser Zyklus von Behandlung und Ergänzung wurde 6 Tage wiederholt und die Differenz zwischen der Anzahl der festen schwarzen Stufen bei den mit dem frischen Entwickler behandelten Platten und bei den mit dem am sechsten Tag verwendeten Entwickler behandelten Platten betrug weniger als eine Stufe. Dies zeigt die erfindungsgemäss erzielte verlängerte Wirksamkeit.ditched. Before restarting development, the positive working PS plates were taken, with one on each Step tray was printed, treated and ps showed that the developer activity had decreased. That's why 3-4 liters were added to the supplement. This The cycle of treatment and supplementation was repeated for 6 days and the difference between the number of solid black Levels on the plates treated with the fresh developer and on those used on the sixth day Developer treated plates was less than one step. This shows the prolongation achieved according to the invention Effectiveness.

Die in Beispiel 1 verwendeten Entwickler und Ergänzungen enthielten Kalium in Mengen von 62,6 % bzw. 79»5 %, bezogen auf die Gesamt-Gram-Atome der vorliegenden gesamten Alkalimetalle. Das "Verhältnis von Siliciumdioxid zu Alkalimetall oder /ΒΐΟοΤΖ/ΐί/" im Entwickler betrug 0,61 und das Verhältnis in der Ergänzung betrug 0,33· Die Zufuhrgeschwindigkeit des ersten Entwicklers wurde nach der Gleichung (II) berechnet, worin die Proportionalitätsfaktoren (a) und (c) 2,5 ml/min bzw. 16 ml/g betrug. Während der sechstägigen Entwicklung trat keine Düsenverstopfung in der automatischen Entwicklungsmaschine auf und es wurde auch kein lösliches Material im Entwickler beobachtet.The developers and supplements used in Example 1 contained potassium in amounts of 62.6 % and 79-5%, respectively, based on the total gram atoms of the total alkali metals present. The "ratio of silica to alkali metal or / ΒΐΟοΤΖ / ΐί /" in the developer was 0.61, and the ratio in the supplement was 0.33 ) and (c) were 2.5 ml / min and 16 ml / g, respectively. No nozzle clogging occurred in the automatic developing machine and no soluble matter was observed in the developer during the six-day development.

Example 2

Das Verfahren nach Beispiel Λ wurde unter Anwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine "I3OO EU" wiederholt, wobei jedoch eine Stammlösung der folgenden Zusammensetzung für Entwickler und Ergänzung verwendet wurde.The procedure of Example Λ was repeated using an "I300 EU" automatic developing machine, but using a stock solution of the following composition for developer and replenishment.

030036/0850030036/0850

• 4ο·• 4ο ·

Composition of the stock solution

Wässrige Lösung von HatriumsilicatAqueous solution of sodium silicate

gemäss JIS Hr. 3 497 Saccording to JIS Mr. 3 497 p

Wässrige Lösung von Kaiiumhydroxid (48 %) 272 g Amphoteres oberflächenaktives MittelAqueous solution of potassium hydroxide (48 %) 272 g of amphoteric surfactant

(wie in Beispiel 1) 3,2 g(as in Example 1) 3.2 g

-Organisches-Silicon als Antischäumungsmittel 0,72 g-Organic silicone as an anti-foaming agent 0.72 g

Wasser 760 gWater 760 g

Die Entwicklungsmaschine wurde mit 21 Liter einer auf das Yoluiaen bezogenen 7fachen wässrigen Verdünnung (pH 13?07) der Stammlösung beschickt und die jeweiligen Ergänzungstanks wurden mit einer auf das Volumen bezogenen 3fachen wässrigen Verdünnung (pH 13,40) äe^ gleichen Stammlösung beschickt. Der isolierende Behälter wurde so eingestellt, dass der Entwiekler bei 25° C gehalten wurde und die Entwicklungszeit wurde auf 40 Sekunden je PS-Platte eingeregelt.The developing machine was supplied with 21 liters of a 7-fold aqueous dilution based on Yoluiaen (pH 13-07) the stock solution and the respective Supplementary tanks were equilibrated with a 3-fold aqueous dilution (pH 13.40) by volume Stock solution charged. The insulating container was adjusted so that the descender was kept at 25 ° C and the development time was adjusted to 40 seconds per PS plate.

Die in diesem Beispiel eingesetzten positiv arbeitenden ■PS-Platten waren die gleichen wie in Beispiel 1. Grosse und Anzahl der Platten waren die folgenden:The positive-working PS plates used in this example were the same as in Example 1. Large and number of plates were as follows:

1310 χ 1050 mm (Grosse A) 30 Platten1310 χ 1050 mm (size A) 30 plates

1003 χ 800 mm (Grosse B) 100 Platten1003 χ 800 mm (size B) 100 plates

650 χ 525 mm (Grosse C) 80 Platten650 χ 525 mm (size C) 80 plates

Die Entwicklungsmaschine hatte einen Mechanismus, bei dem ein Mikroschalter zur Messung der Länge einer Seite in der Laufrichtung jeder PS-Platte verwendet wurde, und in betrieblicher Verbindung mit dem Mechanismus wurdeThe developing machine had a mechanism in which a microswitch was used to measure the length of a Directional side of each PS plate was used, and was operationally associated with the mechanism

030036/0850030036/0850

- yf- - yf-

eine Ifenge der ersten Ergänzung praktisch proportional zur gemessenen Länge zu dem Entwickler zugeführt. Bei einer Entwicklungszeit von 40 Sekunden, wie sie in diesem Beispiel angewandt wird, wurden 33 ml der ersten Ergänzung je Seite von 0,892 m der PS-Platte geliefert. Auf der Basis dieses Bezugswertes wurden 48,5 ml* 29,6 ml uzw. 19»4 ml der ersten Ergänzung für die Behandlung der Grossen A, B bzt»'. C geliefert. Der Entwickler wurde mit 840 ml der zweiten Ergänzung alle zwei Stunden seit Beginn der Behandlung versorgt.an ifenge of the first supplement practically proportional fed to the developer at the measured length. With a development time of 40 seconds, as in this one Example applied were 33 ml of the first supplement Supplied on each side of 0.892 m of the PS plate. On the This reference value was based on 48.5 ml * 29.6 ml etc. 19 »4 ml of the first supplement for treating the Capital A, B bzt »'. C delivered. The developer was using 840 ml of the second supplement supplied every two hours since the start of treatment.

Die drei Grossen der PS-Platten wurden ohne Bestimmung der Reihenfolge der Behandlung behandelt. Eine kontinuierliche oder intermittierende Behandlung während eines Zeitraums von 22 Stunden zeigte, dass die Unterschiede zwischen der Anzahl der festen schwarzen Stufen für die mit dem frischen Entwickler behandelte Platte und für die mit dem Entwickler in jeder Stufe der Behandlung behandelte Platte weniger als eine Stufe betrug. Daraus ergibt sich erneut die Wirksamkeit gemäss der vorliegenden Erfindung. Sowohl der Entwickler als auch die Ergänzung enthielten Kalium in einer Menge von 61 %, bezogen auf die gesamten Grammatome sämtlicher vorliegender Alkalimetalle. Das Verhältnis von Siliciumdioxid zu Alkalimetall oder ^SiOp7//T5Z* ^^ei Entwickler und Ergänzung betrug 0,585- Die Zufuhrgeschwindigkeit der ersten Ergänzung wurde nach der Gleichung (II) berechnet, wobei die Proportionalitätsfaktoren (a) und (c) 2,5 ml/min bzw. 14 ml/g betrugen.The three large PS plates were treated without specifying the order of treatment. Continuous or intermittent treatment for a period of 22 hours indicated that the difference between the number of solid black steps for the plate treated with the fresh developer and for the plate treated with the developer in each step of the treatment was less than one step. This again results in the effectiveness according to the present invention. Both the developer and the supplement contained potassium at 61% based on the total gram atoms of all alkali metals present. The ratio of silica to alkali metal or ^ SiOp7 // T5Z * ^ ^e i developer and replenisher was 0.585- The feed rate of the first replenisher was calculated according to equation (II), with the proportionality factors (a) and (c) 2.5 ml / min and 14 ml / g, respectively.

Example 3

Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch der Entwicklungstank der automatischen Entwicklungs-The procedure of Example 1 was repeated except that the developing tank of the automatic developing

030036/0850030036/0850

360360 22 εε 6666 7272 gG 3,3, SS. O,O, SS. 784784 gG

maschine mit 21 Liter einer auf das Volumen bezogenen 7fachen wässrigen Verdünnung einer Stammlösung der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung beschielet wurde. Die Verdünnung enthielt gelöst 210 g Kaliumpyrophosphat.machine with 21 liters of a 7-fold aqueous dilution by volume of a stock solution of the following specified composition was targeted. the The dilution contained 210 g of dissolved potassium pyrophosphate.

Composition of the stock solution

Hatriummetasilicat-nonahydratsalz Eatriumsilicat gemäss JIS ETr. 3 Amphoteres oberflächenaktives Mittel (wie in Beispiel 1)Sodium metasilicate nonahydrate salt according to JIS ETr. 3 Amphoteric surfactant (as in Example 1)

Organisches Silicon als Antischäumungsmittel WasserOrganic silicone as an anti-foaming agent water

Die erste une die zweite Ergänzung wurden aus einer auf das Volumen bezogenen 3fachen wässrigen Verdünnung der vorstehenden Stammlösung plus 23,3 g gelöstem Kaliumpycophosphat je Liter der Verdünnung hergestellt. Achtzig positiv arbeitende PS-Platten (Grosse 1003 χ 800 mm) wurden in geeigneten Abständen im Verlauf von 6 Stunden behandelt. Der Entwickler wurde mit 25 ml der ersten Ergänzung bei der Behandlung von jeder Platte gespeist, während 400 ml der zweiten Ergänzung jede Stunde seit Beginn der Entwicklung zugeführt wurden. Das auf jede PS-Platte aufgedruckte Stufentablett zeigte einen stabilen Behandlungsarbeit sgang, wobei der Unterschied zwischen der Anzahl der festen schwarzen Stufen für die unter Anwendung des frischen Entwicklers behandelten Platten gegenüber den mit dem gebrauchten Entwickler behandelten Platten weniger als eine Stufe betrug. Infolgedessen wurde die Entwickleraktivität praktisch konstant während der Behandlung beim erfindungsgemassen Verfahren gehalten.The first and second supplements were made from a 3-fold aqueous dilution by volume of the above stock solution plus 23.3 g of dissolved potassium pycophosphate produced per liter of dilution. Eighty positive working PS plates (size 1003 800 mm) were made treated at appropriate intervals over the course of 6 hours. The developer was supplied with 25 ml of the first supplement the treatment fed from each plate while 400 ml the second supplement every hour since development began. The one printed on each PS plate Step tray showed a stable treatment operation, with the difference between the number of solid black levels for the plates treated using the fresh developer versus those with the used developer treated plates was less than one step. As a result, the developer activity became practically constant during the treatment inventive method held.

030036/0850030036/0850

- 39--- 39--

Entwickler und Ergänzung enthielten etwa 24 % Kalium, bezogen auf die gesamten Grammatome sämtlicher vorliegender Alkalimetalle. Das Zufuhrausmass der ersten Ergänzung wurde nach der Gleichung (II) berechnet, wobei die Proportionalitätfaktoren (a) und (c) 2,2 ml/min bzw. 12,5 ml/g betrugen. Der erschöpfte Entwickler wurde in der automatischen Entwicklungsmaschine während 4 Tagen stehengelassen, wobei kein unlösliches Material gebildet wurde.The developer and supplement contained approximately 24 % potassium based on the total gram atoms of all alkali metals present. The supply rate of the first supplement was calculated according to equation (II), with the proportionality factors (a) and (c) being 2.2 ml / min and 12.5 ml / g, respectively. The exhausted developer was allowed to stand in the automatic developing machine for 4 days, whereby no insoluble matter was formed.

Example 4

Eine automatische Entwicklungsmaschine "I3OO U" (Produkt der Euji Photo film Co., Ltd. zur Entwicklung von PS-Platten) mit dem in Fxg. 1 gezeigten Aufbau wurde mit 21 Litern eines Entwicklers beschickt, der aus einer auf das Volumen bezogenen 7fachen wässrigen Verdünnung einer Stammlösung mit der gleichen Zusammensetzung wie in Beispiel 2 aufgebaut war. Eine Stammlösung mit der gleichen Zusammensetzung wurde auf das 3fache Volumen mit Wasser zur Herstellung der ersten und der zweiten Ergänzung verdünnt. An automatic developing machine "I3OO U" (Product of Euji Photo film Co., Ltd. for the development of PS plates) with the in Fxg. 1 was loaded with 21 liters of a developer, which consists of a the volume related 7-fold aqueous dilution of a Stock solution with the same composition as in Example 2 was built up. A stock solution with the same Composition was diluted 3 times its volume with water to make the first and second supplements.

Die Entwicklungstemperatur wurde auf 25° C eingestellt und die automatische Entwicklungsmaschine wurde so eingeregelt, dass sie 40 Sekunden zur Entwicklung einer positiv arbeitenden hindurchgehenden PS-Platte brauchte. Die in dieser Weise eingestellte Entwicklungsmaschine wurde mit der nachfolgend angegebenen Anzahl bildweise belichteter positiv arbeitender PS-Platten I (wie in Beispiel 1) und positiv arbeitender PS-Platten II (wie nachfolgend beschrieben, gespeist, welche in geeigneten Abständen im Verlauf von 10 Stunden behandelt wurden.The development temperature was set to 25 ° C and the automatic developing machine was controlled to take 40 seconds to develop a positive working through PS plate. The developing machine set in this way was with the number of image-wise exposed positive PS plates I specified below (as in Example 1) and positive-working PS plates II (as described below, fed, which at suitable intervals in the Over the course of 10 hours.

030036/0850030036/0850

Die positiv arbeitenden PS-Platten II wurden in der folgenden Weise hergestellt. Eine 2S-Aluminiumplatte von 0,24 mm Dicke wurde durch. Eintauchen derselben während 3 Minuten in eine 10%ige wässrige Lösung von tertiärem Uatriumphosphat, die bei 80° C gehalten wurde, entfettet. Each der Körnung mit einer ITylonbürste wurde die Platte -mit -Katriumaluminat während 10 Sekunden geätzt und in einer 3%igen wässrigen Lösung von Natriumhydrogensulfat entschmutzt.The positive working PS plates II were made in the following manner. A 2S aluminum plate from 0.24mm thickness was through. Immerse the same for 3 minutes in a 10% aqueous solution of tertiary Uodium phosphate, which was kept at 80 ° C, defatted. Each of the grit with an ITylon brush was the plate -Etched with -sodium aluminate for 10 seconds and in a 3% aqueous solution of sodium hydrogen sulfate dirty.

Der auf diese Weise hergestellte Träger wurde mit einer lichtempfindlicher Lösung der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung überzogen und getrocknet, so dass die positiv arbeitende PS-Platte II mit einer lichtempfindlichen Schicht zu einem Trockengewicht von 2,5 g/m erhalten wurde.The support thus prepared was coated with a photosensitive solution as shown below Composition coated and dried, leaving the positive-working PS plate II with a photosensitive Layer at a dry weight of 2.5 g / m 2 was obtained.

Photosensitive solution

Veresterungsprodukt aus Uaphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid und Pyrogallol/Aceton-Harz (wie in Beispiel 1 der TJS-Patentschrift 3 635 709 beschrieben)Esterification product from uaphthoquinone- (1,2) -diazide- (2) -5-sulfonic acid chloride and pyrogallol / acetone resin (as in Example 1 of TJS Patent 3 635 709)

Cre sol-Uo volakharz p-tert.—Butylphenolharz Tetrahydrophthalsäureanhydrid ThymolblauCre sol-Uo volak resin, p-tert-butylphenol resin Tetrahydrophthalic anhydride Thymol blue

Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäureChlorid Naphthoquinone- (1,2) -diazide- (2) -4-sulfonic acid chloride

Äthylendichiorid 2-MethoxyäthylacetatEthylene dichloride 2-methoxyethyl acetate

0,630.63 gG 1,981.98 εε 0,050.05 gG 0,150.15 gG 0,040.04 gG 0,030.03 gG 1818th εε 1212th εε

030036/0850030036/0850

■ te.■ te.

Positive working PS plates I

1310 χ 1050 mm (Grosse A) 15 Platten /Tag IOO3 χ 800 mm (Grosse B) 30 Platten/Tag1310 χ 1050 mm (size A) 15 plates / day IOO3 χ 800 mm (size B) 30 plates / day

Positive working PS plates II

1310 χ 1050 mm (Grosse A) 15 Platten /Tag IOO3 χ 800 mm (Grosse B) 20 Platten /Tag 700 χ 550 mm (Grosse C) 30 Platten/Tag1310 χ 1050 mm (size A) 15 plates / day IOO3 χ 800 mm (size B) 20 plates / day 700 χ 550 mm (size C) 30 plates / day

Bei der Behandlung jeder PS-Platte wurde der Entwickler mit der ersten- Ergänzung in einer Menge von 50 ml je m der Platte versorgt. Infolgedessen wurden 62 ml, 40 ml bzw. 19 ml der ersten Ergänzung bei der Behandlung der Grossen A, B bzw. C zugeführt. De^ Entwickler wurde auch mit 400 ml der zweiten Ergänzung alle zwei Stunden seit Beginn der Behandlung versorgt. Nach Beendigung der Behandlung wurden Entwickler und Ergänzung in der automatischen Entwicklungsmaschine über Nacht, d. h. 14 Stunden, stehengelassen. Dadurch ergab sich eine Abnahme der Entwickleraktivität. Der Entwickler wurde mit 2,5 Liter der Ergänzung versorgt und zur Entwicklung der gleichen Anzahl positiv arbeitender PS-Platten, wie sie m vorhergehenden Tag behandelt wurden, verwendet. Durch die zweitägige Behandlung zeigte sich die Wirksamkeit gemäss der vorliegenden Erfindung. Das Zufuhrausmass der ersten Ergänzung wurde nach der Gleichung (II) berechnet, worin die Proportionalitätsfaktoren (a) und (c) 2,5 ml/min bzw. 16 ml/g betrugen.When treating each PS plate, the developer was supplied with the first supplement in an amount of 50 ml per m of the plate. As a result, 62 ml, 40 ml and 19 ml of the first supplement were added in the treatment of sizes A, B and C, respectively. The developer was also supplied with 400 ml of the second supplement every two hours since the start of treatment. After the completion of the treatment, the developer and replenisher were allowed to stand in the automatic developing machine overnight, that is, 14 hours. This resulted in a decrease in developer activity. The developer was supplied with 2.5 liters of the supplement and used to develop the same number of positive working PS plates as treated on the previous day. The two-day treatment showed the effectiveness according to the present invention. The feeding rate of the first supplement was calculated according to the equation (II), wherein the proportionality factors (a) and (c) were 2.5 ml / min and 16 ml / g, respectively.

030036/0 850030036/0 850

Example 5

Eine automatische Entwicklungsmaschine "400S" (Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd. zur Anwendung bei der Entwicklung von PS-Platten) wurde mit 5 Litern einer 7fachen Verdünnung (pH 13,10) einer Stammlösung der folgenden Zusammensetzung beschickt.An automatic developing machine "400S" (product Fuji Photo Film Co., Ltd. for use in development of PS plates) was diluted with 5 liters of a 7-fold (pH 13.10) of a stock solution of the following Composition charged.

Composition of the stock solution (development)

Uatriummetasilicat-nonahydratsalz 34-1,0 gSodium metasilicate nonahydrate salt 34-1.0 g

tertiäres Kaliumphosphat 14,8 gtertiary potassium phosphate 14.8 g

wässrige Lösung von Kaliumhydroxid 50,2 gaqueous solution of potassium hydroxide 50.2 g

Wasser 764 gWater 764 g

Die jeweiligen Ergänzungstanks wurden mit ersten und zweiten Ergänzungen beschickt, die jeweils eine 7fache Verdünnung (pH 13,45) einer Stammlösung der folgenden Zusammensetzung waren:The respective supplementary tanks were first and second supplements, each a 7-fold dilution (pH 13.45) of a stock solution of the following Composition were:

Composition of the stock solution (supplement)

Hatriummetasilicat-nonahydratsalz 341,0 gSodium metasilicate nonahydrate salt 341.0 g

tertiäres Kaliumphosphat 46,0 gtertiary potassium phosphate 46.0 g

Wässrige Lösung von Kaliumhydroxid (48 Gew.%) 162,5 gAqueous solution of potassium hydroxide (48% by weight) 162.5 g

Wasser 690,5 gWater 690.5 g

Die Temperatur des Entwicklers wurde auf 25° C eingestellt und die Entwicklungszeit auf 50 Sekunden festgesetzt. Die in dieser Weise eingeregelte automatische Entwicklungsmaschine wurde mit 250 PS-Platten "GJiP-II" (Grosse
254 χ 391 mm, Produkt der Fuji Photo PiIm Co. Ltd.) ge-The temperature of the developer was set to 25 ° C and the developing time was set to 50 seconds. The automatic developing machine regulated in this way was equipped with 250 HP "GJiP-II" (large
254 χ 391 mm, product of Fuji Photo PiIm Co. Ltd.)

030Q36/0850030Q36 / 0850

4?·4?

speist, welche kontinuierlich oder intermittierend während eines Zeitraums von 8 Stunden behandelt wurden. Der Entwickler wurde mit 75 ml der zweiten Ergänzung jede Stunde seit Beginn der Entwicklung versorgt, während 2,2 ml der ersten Ergänzung bei der Behandlung jeder PS-Platte zugeführt wurden.feeds which continuously or intermittently during treated over a period of 8 hours. The developer was given 75 ml of the second supplement every hour supplied since the beginning of development, while 2.2 ml of the first supplement in the treatment of each PS plate were fed.

Der Stufenkeil, durch den jede PS-Platte belichtet wurde, zeigte, dass der Unterschied zwischen der Zahl der festen schwarzen Stufen für die erste behandelte Platte und derjenige für die letzte behandelte Platte weniger als eine Stufe betrug.The step wedge through which each PS plate was exposed showed that the difference between the number of solid black steps for the first treated plate and that for the last treated plate less than was a step.

Example 6

Eine automatische Entwicklungsmaschine "I3OO KtJ" wurde mit einer 7fachen Verdünnung (pH 12,93) einer Entwicklerstammlösung der folgenden Zusammensetzung beschickt:An automatic developing machine "I3OO KtJ" was diluted with a 7-fold (pH 12.93) developer stock solution of the following composition:

Zusammensetzung der Stammlösung (Entwickler) Composition of the stock solution (developer )

Natriummetasilicat-nonahydratsalz 360 gSodium metasilicate nonahydrate salt 360 g

Wässrige Lösung von Uatriumsilicat gemäss JTS Hr. 3Aqueous solution of sodium silicate according to JTS Hr. 3

"Amogen E""Amogen E"

Organisches Silicon als IntischäumungsmittelOrganic silicone as a foaming agent

Wasserwater

Die jeweiligen Ergänzungstanks wurden mit einer 7fachen Verdünnung (pH 13,4-2) einer Ergänzungsstammlösung der folgenden Zusammensetzung gespeist:The respective supplementary tanks were diluted with a 7-fold (pH 13.4-2) of a supplementary stock solution fed with the following composition:

65,65, 66th SS. 3232 SS. 0,0, 7272 SS. 784784 gG

030036/0850030036/0850

-JA--YES-

65,65, 66th SS. 140140 gG 784-784- gG

Eatriummetasilicat-nonahydrat 360 gEatrium metasilicate nonahydrate 360 g

Wässrige Lösung von Hatriumsilicat gemäss JIS Hr. 3Aqueous solution of sodium silicate according to JIS Hr. 3

Wässrige Kaliunüaydroxidlö sung (48 %) WasserAqueous potassium hydroxide solution (48 %) water

Die Temperatur des Entwicklers wurde auf 25° C eingestellt und die Entwicklungszeit wurde auf 50 Sekunden · je Platte eingeregelt. Die Entwicklungsmaschine wurde mit Λ50 PS-Platten "SGP-II" (Grosse 1003 x 800 mm) gespeist, welche kontinuierlich oder intermittierend im Verlauf von 8 Stunden behandelt wurden. Der Entwickler wurde mit 720 ml der zweiten Ergänzung alle zwei Stunden nach Beginn der Entwicklung versorgt, während 25,5 ml der ersten Ergänzung bei der Behandlung jeder Platte zugesetzt wurden. Wiederum wurden sämtliche PS-Platten zum gleichen Ausmass entwickelt.The temperature of the developer was set to 25 ° C. and the development time was set to 50 seconds per plate. The developing machine was fed with Λ50 PS plates "SGP-II" (size 1003 x 800 mm), which were treated continuously or intermittently over a period of 8 hours. The developer was supplied with 720 ml of the second supplement every two hours after the start of development, while 25.5 ml of the first supplement was added to each plate during treatment. Again, all PS plates were developed to the same extent.

Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne dass die Erfindung hierauf begrenzt ist.The invention has been described above on the basis of preferred embodiments without affecting the invention is limited to this.

030036/0850030036/0850

Claims

I 1. J A method for developing an imagewise exposed, positive-working photosensitive lithographic printing plate and for keeping the activity of an alkaline developer constant during development, characterized in that a first replenishment with a higher alkalinity than the alkaline developer is added to the developer for each treatment of the photosensitive material is added and that a second supplement with a higher alkalinity than the developer to the developer is continuously added in a certain amount or at certain intervals in certain amounts.

2. The method according to claim 1, characterized in that the first addition to the developer in a specific Amount added in proportion to the length of one side of the photosensitive material to be treated will.

3. Method according to claim 1 or 2, characterized in that that the development is carried out in an automatic developing machine.

4. The method according to claim 3 »characterized in that the first addition to the developer in a specific The amount is added in proportion to the length in the running direction of the photosensitive material to be processed by the automatic developing machine.

Ώ30036 / 0850

«2.

5. The method according to claim Λ to 4, characterized in that an aqueous solution of an alkali silicate with an alkalinity higher than that of the developer and an aqueous solution of an alkali silicate with an alkalinity higher than that of the developer is used as the first supplement, wherein both developer and first and second supplements contain at least 20 % potassium, based on the gram atoms of all alkali metals present.

6. The method according to claim 5 »characterized in that the development in an automatic development machine is carried out what measures to transport a precursor for a positive working photosensitive lithographic printing plate, a nozzle tube through which the developer hits the photosensitive layer of the precursor the positive working photosensitive lithographic printing plate is sprayed by the transport device is transported, a developing tank and means for supplying the developer from the Comprises developing tank to the nozzle tube, and that the first supplement is supplied in two separate quantities, namely (a) in an amount proportional to the length of the imagewise exposed precursor in the direction in which this is moved by the transport device, or proportional to the area of the precursor and (b) in one Amount proportional to the amount of time the developer is sprayed through the nozzle tube.

7- The method according to claim 5i, characterized in that that the first addition to any treatment of the precursor to positive working photosensitive lithographic

0 30036/0850

. 3.

Printing plate in an amount corresponding to the following Equation (I) or (II) is fed:

cSWn + a £ 3? n

χ S, (II)

where 5.Wn is the total weight of the photosensitive layers of η positive working photosensitive lithographic printing plates within a given period of time, c one by the type of precursor and the Composition of the first supplement certain proportionality factor, yJTn the total working hours of the Treatment of η positive working plates, spraying required by the type of automatic developing machine, the composition of the first supplement and the concentration of EohlendioxLdgas in the The atmosphere in which the developing machine is installed determined the proportionality factor, 5Ln the total length of η positive working plates in the direction in which they run in the developing machine, 2Sn is the total area of the η positive working plates, L is the length of a positive working photosensitive lithographic printing plate in the running direction and S is the area of a positive working plate.

8. The method according to claim 7i, characterized in that that the first addition to any positive working photosensitive lithographic printing plate treatment is supplied in an amount corresponding to the following equations (I ') or (II'):

030036/0850

ζ L + aT (I ¹ )

S + aT (II ¹ )

where S _- Wn, c, ^ Ln, a, Sj3n, L and S have the same meanings as in equations (I) and (II) and T indicates the period of time during which the spraying occurs during the treatment of a positive working photosensitive lithographic Pressure plate is actuated.

9- "Method according to claim 5 to 8, characterized in that an aqueous solution of an alkali silicate is used as the developer, which has a ratio / SiO ₂ /// ^ of 0.5 to 0.75, in which / SiO ₂ / the concentration of SiOo ia the volume unit, given in gram molecules, and / l ·]? the concentration of the alkali metal in the volume unit, given in gram atoms, and a SiOp E concentration of Λ to 4 wt.%, based on the total weight of the aqueous solution, and as first and second supplements an aqueous solution of an alkali silicate with a ratio / ß ± 0 ^ // ß3f of 0.25 to 0.75, in which / SiO ₂ Z and / TiT have the same meanings as above, be used.

030036/0850