DE19937861C2 - Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung - Google Patents

Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung

Info

Publication number
DE19937861C2
DE19937861C2 DE19937861A DE19937861A DE19937861C2 DE 19937861 C2 DE19937861 C2 DE 19937861C2 DE 19937861 A DE19937861 A DE 19937861A DE 19937861 A DE19937861 A DE 19937861A DE 19937861 C2 DE19937861 C2 DE 19937861C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
granules
fuel gas
gas flame
granulate
quartz glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19937861A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19937861A1 (de
Inventor
Rolf Gerhardt
Rainer Koeppler
Werner Ponto
Waltraud Werdecker
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Original Assignee
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG filed Critical Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Priority to DE19937861A priority Critical patent/DE19937861C2/de
Priority to EP00116514A priority patent/EP1076043B1/de
Priority to US09/636,148 priority patent/US6360563B1/en
Priority to JP2000244539A priority patent/JP2001080927A/ja
Publication of DE19937861A1 publication Critical patent/DE19937861A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19937861C2 publication Critical patent/DE19937861C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/10Forming beads
    • C03B19/1005Forming solid beads
    • C03B19/102Forming solid beads by blowing a gas onto a stream of molten glass or onto particulate materials, e.g. pulverising

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren für die Herstellung von dichter, amorpher Quarzglas-Körnung durch Erzeugen eines porösen Granulats aus amorphem SiO¶2¶-Pulver und Verglasen des Granulats, wobei erfindungsgemäß ein poröses SiO¶2¶-Granulat einer Brenngasflamme ausgesetzt, darin fein verteilt, erhitzt und verglast wird. Die Brenngasflamme ist hinsichtlich der Temperatureinstellung flexibler als die bei den bekannten Verfahren. Insbesondere sind mit der Brenngasflamme höhere Temperaturen einstellbar. Dabei kann das Granulat sehr hohen Sintertemperaturen in der Brenngasflamme ausgesetzt werden, ohne daß es zu Agglomeraten zusammensintert. Gleichzeitig werden Probleme hinsichtlich der Hitzebeständigkeit von eingesetzten Sinterbehältern, wie Öfen oder Tiegeln, umgangen. Darüber hinaus ist eine Verunreinigung des SiO¶2¶-Granulats durch Kontakt mit Wandungen eines Sinter- oder Verglasungsbehälters ausgeschlossen. DOLLAR A Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren kann auf kostengünstige Weise eine hochreine, dichte Quarzglas-Körnung hergestellt werden.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren für die Herstellung von dichter, amorpher Quarzglas-Kör­ nung, durch Erzeugen eines porösen Granulats aus amorphem SiO2-Pulver und Verglasen des Granulats.
Amorphes SiO2-Pulver wird beispielsweise durch Flammhydrolyse oder Oxidation siliziumhalti­ ger Verbindungen, durch Hydrolyse organischer Siliziumverbindungen nach dem sogenannten Sol-Gel-Verfahren oder durch Hydrolyse anorganischer Siliziumverbindungen in einer Flüssig­ keit erhalten. Beispielsweise fällt amorphes SiO2-Pulver mit einer hohen spezifischen Oberflä­ che im Bereich zwischen 40 m2/g und ca. 400 m2/g bei der Herstellung von synthetischem Quarzglas für Lichtwellenleiter als Nebenprodukt in großen Mengen an. Die Wiederverwertung des Pulvers durch Einschmelzen ist aber problematisch. Wegen ihrer geringen Schüttdichte lassen sie sich nicht unmittelbar zu durchsichtigen, blasenarmen Quarzglaskörpern aufschmel­ zen. Zur Verdichtung der Pulver sind beispielsweise Naßgranulierungsverfahren gebräuchlich, bei denen aus einer wässrigen, kolloidalen Dispersion derartiger SiO2-Pulver durch ständiges Mischen oder Rühren ein Sol und daraus unter allmählichem Entzug der Feuchtigkeit ein Ag­ glomerat in Form von porösem Granulat erzeugt wird.
In einem ersten gattungsgemäßen Verfahren nach der DE-A1 44 24 044 wird vorgeschlagen, eine wäßrige Suspension aus pyrogen hergestelltem Kieselsäurepulver in einem Mischbehäl­ ter mit rotierendem Wirblerwerkzeug zu behandeln, dessen Umfangsgeschwindigkeit während einer ersten Mischphase auf einen Wert im Bereich von 15 m/s bis 30 m/s, und in einer zwei­ ten Mischphase auf 30 m/s oder mehr eingestellt wird. Nach der ersten Mischphase wird eine grobkörnige Masse erhalten. Der Verdichtungsgrad der grobkörnigen Masse wird erhöht, in­ dem amorpher Kieselsäurestaub hinzugegeben, und in der zweiten Mischphase die grobkörni­ ge Masse unter intensiver Misch- und Schlagbeanspruchung zerkleinert wird. Dabei tritt gleich­ zeitig Wasser aus der Oberfläche der körnigen Masse aus, das durch Zugabe von weiterem Kieselsäurepulver abgepudert wird, um ein Verkleben der Körnung zu verhindern. Das so er­ haltene poröse und rieselfähige SiO2-Granulat wird anschließend getrocknet und durch Sintern bei Temperaturen zwischen 1000°C und 1200°C verfestigt.
In der US-A 5,604,163 ist ein Verfahren für die Herstellung von Pulver aus synthetischem Quarzglas gemäß der eingangs genannten Gattung beschrieben. Ein nach der Sol-Gel-Metho­ de aus Tetramethoxysilan und Wasser hergestelltes Gel wird im Vakuum rasch getrocknet, wobei es unter Bildung von SiO2-Granulat zerbricht. Das Granulat mit Teilchengrößen zwi­ schen 100 µm und 500 µm wird anschließend in einen Sinterbehälter aus Quarzglas eingefüllt und in einem elektrisch beheizten Ofen chargenweise gesintert. Hierzu wird das Granulat mit einer Aufheizrate von 200°C/h auf 1150°C erhitzt und bei dieser Temperatur 35 Stunden ge­ halten. Die so erhaltene dichte Quarzglas-Körnung kann anschließend mittels den konventio­ nellen Verfahren, wie dem Verneuil-Verfahren, zu Quarzglasprodukten verarbeitet werden. Um Blasenbildung beim Einschmelzen zu vermeiden, ist eine porenfreie Quarzglas-Körnung vorteilhaft. Die nach den bekannten Verfahren hergestellte Quarzglas-Körnung kann aber noch Restgase enthalten, die zu Blasen führen. Eine Senkung des Gehalts an Restgasen durch längere Sinterzeiten oder höhere Sintertemperaturen ist mit Zeit- bzw. mit Kostenauf­ wand verbunden. Einer Erhöhung der Sintertemperatur sind auch dadurch Grenzen gesetzt, daß die Granulat-Körner bei hohen Temperaturen erweichen und dabei zu einer undefinierten, porenhaltigen Quarzglasmasse agglomerieren.
Insbesondere bei hohen Temperaturen kann die Quarzglas-Körnung durch das Material des Sinterbehälters verunreinigt werden. Die Kontaminationsgefahr kann zwar durch Einsatz ge­ eigneter Sinterbehälter, beispielsweise aus hochreinem Quarzglas, reduziert werden. Jedoch sind derartige Sinterbehälter teuer. Zudem sind Sinterbehälter aus Quarzglas für Sintertempe­ raturen oberhalb ca. 1400°C nicht geeignet.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein kostengünstiges Verfahren für die Her­ stellung dichter, hochreiner Quarzglas-Körnung anzugeben.
Diese Aufgabe wird ausgehend von dem eingangs beschriebenen Verfahren erfindungsge­ mäß dadurch gelöst, daß das poröse Granulat in einer Brenngasflamme fein verteilt wird, und in der Brenngasflamme verglast wird.
Unter Granulat werden opake, porenbehaftete SiO2-Körner verstanden, die sich aus einer Viel­ zahl von Primärpartikeln zusammensetzen; unter verglaster Körnung dagegen versteht man tranparente, porenfreie SiO2-Körner mit amorpher Struktur.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird das poröse SiO2-Granulat einer Brenngasflamme ausgesetzt, darin fein verteilt, erhitzt und verglast. Die Brenngasflamme ist hinsichtlich der Temperatureinstellung flexibler als die bei dem bekannten Verfahren. Insbesondere sind mit der Brenngasflamme höhere Temperaturen einstellbar. Dabei kann das Granulat sehr hohen Sintertemperaturen in der Brenngasflamme ausgesetzt werden, ohne daß es zu Agglomeraten zusammensintert. Gleichzeitig werden Probleme hinsichtlich der Hitzebeständigkeit von einge­ setzten Sinterbehälter, wie Öfen oder Tiegel umgangen. Darüberhinaus ist eine Verunreini­ gung des SiO2-Granulats durch Kontakt mit Wandungen eines Sinter- oder Verglasungsbehäl­ ters ausgeschlossen.
Beim Durchgang durch die Brenngasflamme kollabiert der Porenraum des Granulates und es entsteht eine amorphe, dichte Quarzglas-Körnung. Hohe Temperaturen beschleunigen die Ausdiffusion von Restgasen aus dem porösen Granulat, erleichtern die Einstellung einer mög­ lichst hohen Dichte der Quarzglas-Körnung und verkürzen die dafür erforderlichen Sinterzeiten von Stunden auf Sekunden.
Die Brenngasflamme wird durch Verbrennung einer Wasserstoff enthaltenden Komponente, wie Wasserstoff selbst oder einer Kohlenwasserstoffverbindung, wie Propan oder Acetylen, er­ zeugt. Als Reaktionspartner kommen Sauerstoff, Sauerstoffverbindungen, Halogene und Halo­ genverbindungen in Frage.
Wesentlich ist, daß die Granulat-Körner beim Verglasen nicht agglomerieren. Eine Agglomera­ tion wird dadurch vermieden, daß das Granulat in der Brenngasflamme in fein verteilter Form dispergiert ist und in dieser Verteilung der Brenngasflamme ausgesetzt wird. Beispielsweise kann das Granulat in die Brenngasflamme eingeblasen, eingesprüht oder eingestreut werden. Durch die feine Verteilung des Granulats in der Brenngasflamme werden die einzelnen Granu­ lat-Körner getrennt voneinander innerhalb kurzer Zeit auf hohe Temperaturen erhitzt, so daß sie nicht miteinander verkleben können. Die feine Verteilung gewährleistet, daß alle Körner gleichermaßen und darüberhinaus bei besonders hohen Temperaturen der Brenngasflamme ausgesetzt und verdichtet werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren erlaubt auch eine kontinuierliche Herstellung von SiO2-Körnung, indem das Granulat der Brenngasflamme kontinuierlich zugeführt wird.
Aus DE 198 13 971 A1 ist ein Verfahren zur Reinigung von SiO2-Körnung bekannt. Hierbei wird eine Quarzuglaskörnung aus natürlich vorkommendem kristallinen Quarz in einer Bren­ nerflamme eingestreut und mittels eines halogenhaltigen Behandlungsgases nachbehandelt. Nach diesem Stand der Technik wird jedoch kein poröses SiO2-Granulat als Ausgangsmate­ rial eingesetzt und anschließend verglast, wie dies erfindungsgemäß der Fall ist, sondern die Quarzglaskörnung wird zu Reinigungszwecken in die Flamme eingebracht. Die Brenner­ flamme gemäß DE 198 13 971 A1 dient nicht zur Erzeugung einer amorphen Quarzglaskör­ nung, sondern vielmehr zum Erhitzen der SiO2-Körnung, die dadurch für die Reinigungsbe­ handlung reaktionsfreudiger ist.
Auch in DE 34 43 821 C2 ist unter anderem die Herstellung von Quarzglas-Körnung offen­ bart. Dem gemäß wird ein SiO2-Pulver mit der Bezeichnung "Product of India" mittels einer Brennerflamme zu einem Quarzglasblock geschmolzen. Anschließend wird der Quarzglas­ block mittels eines Brechers grob zerkleinert, um dann nach Abtrennung des Grobanteils in einer Korund-Mühle weiter zerkleinert zu werden. Das so offenbarte Verfahren unterscheidet sich fundamental vom erfindungsgemäßen Verfahren. Es wird kein Granulat, sondern SiO2- Pulver eingesetzt, wobei es sich offensichtlich um eine natürliche (Ursprung Indien) Quarz­ körnung mit relativ hohem Verunreinigungsgehalt handelt. Weiterhin wird das SiO2-Pulver nicht fein verteilt in die Brennerflamme eingebracht, sondern die Brennerflamme wirkt offen­ bar auf ein Pulverbett, - anderenfalls würde kein Quarzglasblock erhalten werden. Und schließlich ist davon auszugehen, dass das Verfahren nach DE 34 43 821 C2 nicht kosten­ günstig ist, da der Verfahrensumweg über einen Quarzglasblock, der dann jedoch noch zer­ kleinert werden muss, um die gewünschte Körnung zu erhalten, ausgesprochen aufwendig ist.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen ausgeführt. Besonders einfach gestaltet sich eine Verfahrensweise, bei der das Granulat in die Brenngas­ flamme eingerieselt wird. Das Granulat wird dabei in fein verteilter Form von oben in die Brenngasflamme eingestreut. Die Orientierung der Brenngasflamme ist dabei nicht wesentlich; sie kann senkrecht zur Fallrichtung des Granulats, parallel dazu, oder auch schräg dazu einge­ stellt sein.
In einer gleichermaßen bevorzugten Verfahrensvariante wird das Granulat der Brenngasflam­ me mittels eines Gasstromes zugeführt. Der Gasstrom kann dabei gleichzeitig zur örtlichen Verteilung des Granulats in der Brenngasflamme beitragen, indem er zur Aufwirbelung einer Schüttung des Granulats eingesetzt wird und wodurch einzelne Granulat-Körner aus der Schüttung mit dem Gasstrom in Richtung der Brenngasflamme mitgerissen werden. Der Gass­ trom kann zum Beispiel ein Wirbelbett der Schüttung erzeugen, wobei die Schüttung gleichzei­ tig chemisch und thermisch vorbehandelt werden kann. Der Gasstrom kann auch als Träger für die Zuführung des Granulats zu einem Brenner dienen, der gleichzeitig die Brenngasflam­ me erzeugt, indem der Gasstrom mit dem Granulat beladen und in den Brenner eingespeist wird.
Alternativ dazu hat sich auch eine Verfahrensweise bewährt, bei der das Granulat der Brenn­ gasflamme unter der Wirkung eines Unterdrucks zugeführt wird. Bei dieser Verfahrensweise wird das Granulat in die Brenngasflamme eingesaugt. Der Unterdruck kann beispielsweise in­ nerhalb des Brenners für die Brenngasflamme erzeugt werden, indem dieser mit einer Venturi- Düse ausgestattet ist, in die das Granulat eingespeist wird.
Als vorteilhaft hat es sich erwiesen, die Brenngasflamme auf eine Temperatur von mindestens 1600°C, vorzugsweise im Bereich von 2000°C bis 2500°C einzustellen. Eine exakte Mes­ sung der Temperatur der Brenngasflamme ist jedoch schwierig, unter anderem, weil beim Ein­ bringen des SiO2-Granulats in die Brenngasflamme die Flammentemperatur in Abhängigkeit vom Durchsatz des Granulats sinkt. Als Temperatur der Brenngasflamme wird die maximale Temperatur innerhalb der Brenngasflamme ohne Zusatz von Granulat verstanden. Mit der Brenngasflamme sind ohne weiteres Temperaturen erreichbar, bei denen die einzelnen Gra­ nulat-Körner vollständig aufschmelzen, was je nach Art und Korncharakteristik des Granulats und Prozeßbedingungen zu einer erwünschten Sphäroidisierung der verglasten SiO2-Körnung führen kann. Allerdings besteht die Gefahr der Agglomeratbildung, wenn erweichte Körner un­ tereinander oder mit Begrenzungswandungen in Kontakt kommt, bevor wenigstens die Ober­ fläche der einzelnen Körner wieder abgekühlt und erstarrt ist. Wesentlich dafür ist nicht allein die Flammentemperatur, sondern auch das Volumen der einzelnen Körner, die Verweilzeit der Körnung in der Brenngasflamme, die Abkühlrate und die Dauer der Abkühlphase vor dem Auf­ treffen auf eine Wandung. Diese Parameter sind jedoch von einem Fachmann anhand weni­ ger Versuche optimierbar. Agglomeratbildung kann auch durch Reduzierung des Feinanteils des Granulats vermieden werden.
Vorteilhafterweise wird der Brenngasflamme eine halogenhaltige Komponente zugeführt. Die halogenhaltige Komponente dient beispielsweise zur Reinigung des Granulats, indem sie mit Verunreinigungen des Granulats unter Bildung flüchtiger Halogenide reagiert, zur Reduzierung des OH-Gehaltes der verglasten Körnung oder zur Einstellung anderer chemischer oder physi­ kalischer Eigenschaften des Quarzglases, wie zum Beispiel der Viskosität. Als halogenhaltige Komponente kommen die Elemente Fluor, Chlor, Brom, Jod, gasförmige chemische Verbin­ dungen dieser Elemente und Gemische der Elemente und Verbindungen in Frage. Die halo­ genhaltige Komponente kann Bestandteil des Brenngases für die Erzeugung der Brenngas­ flamme sein, wobei die Brenngasflamme in dem Fall durch exotherme Reaktion zwischen der wasserstoffhaltigen Komponente und der halogenhaltigen Komponente gebildet wird. Bei die­ ser Verfahrensweise wird die SiO2-Körnung mittels der Brenngasflamme gleichzeitig erzeugt und gereinigt.
Als besonders günstig hat es sich erwiesen, das Granulat vor dem Verglasen in mindestens einem Sinterschritt vorzuverdichten. Das Vorverdichten kann durch Sintern des Granulats in der Brenngasflamme, durch elektrische Beheizung oder durch Einwirkung von Mikrowelle­ nenergie erfolgen. Beispielsweise wird das Granulat der Brenngasflamme mehrfach zugeführt, wobei beim Sinterschritt keine oder eine nur teilweise Verglasung des Granulats erzielt wird. Beispielsweise kann eine Porosität des Granulats so eingestellt werden, daß Restgase noch entweichen können. Vorverdichtetes Granulat kann langsamer und schonender verglast wer­ den und ergibt porenfreie Quarzglas-Körnung mit theoretischer Dichte.
In einer bevorzugten Verfahrensvariante wird das Granulat beim ersten Sinterschritt einer re­ aktiven Atmosphäre ausgesetzt. Diese thermische und chemische Behandlung des porösen Granulats erlaubt außer der Vorverdichtung auch eine chemische Veränderung des Granulats. Beispielsweise lassen sich durch Thermochlorierung oder durch Sauerstoffbehandlung des Granulats Verunreinigungen in Form von Metallverbindungen, Wasser, OH-Gruppen bzw. Kohlenstoffresten entfernen, oder das Granulat kann mit Dotierstoffen beladen werden. Vorteilhafterweise wird Granulat mit einer mittleren Korngröße zwischen 50 µm und 300 µm eingesetzt. Die Untergrenze ergibt sich durch die mit der Korngröße abnehmende Rieselfähig­ keit des Granulats, die Obergrenze durch die mit der Korngröße zunehmende Heizenergie, die zum Verglasen des Granulats erforderlich ist.
Besonders bewährt hat sich der Einsatz des Verfahrens zum Verglasen von Granulat, das durch Sprühgranulation mittels Zentrifugalzerstäubung erzeugt wird. Derartiges Granulat, das sich durch eine vergleichsweise geringe mittlere Korngröße auszeichnet, ist mit den aus dem Stand der Technik bekannten stationären Verglasungsmethoden ohne Agglomeratbildung kaum zu verglasen. Feinkörniges, glasiges Granulat ist als Filler für Elektronikanwendungen in Vergußmassen besonders geeignet.
Als Ausgangsmaterial für das erfindungsgemäße Verfahren weist das durch Sprühgranulation erzeugte Granulat vorteilhafterweise eine mittlere Korngröße auf, die zwischen 5 µm und 150 µm liegt.
In bezug auf die spezifische Oberfläche des Granulats, was im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzt wird, hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn diese im Bereich zwischen 5 m2/g und 100 m2/g liegt, gemessen nach der BET (Brunauer-Emmett-Teller) -Methode.
Abhängig vom bestimmungsgemäßen Einsatz der Quarzglas-Körnung wird eine Verfahrensva­ riante bevorzugt, bei der das Verglasen des porösen Granulats unter reduzierenden Bedingun­ gen erfolgt. Im einfachsten Fall werden beim Verglasen des Granulats in einer Knallgasflam­ me reduzierende Bedingungen durch einen Wasserstoffüberschuß eingestellt. Es hat sich ge­ zeigt, daß der sich dabei in der glasigen Quarzglas-Körnung einstellende OH-Gehalt minde­ stens teilweise durch Tempern bei höheren Temperaturen verringert werden kann und inso­ weit der OH-Gehalt der Quarzglas-Körnung in gewissem Rahmen einstellbar ist.
In einer gleichermaßen bevorzugten Verfahrensvariante erfolgt das Verglasen des porösen Granulats unter oxidierenden Bedingungen. Oxidierende Bedingungen werden im einfachsten Fall beim Verglasen des Granulats in einer Knallgasflamme durch einen Sauerstoffüberschuß eingestellt. Es hat sich gezeigt, daß der sich dabei in der glasigen Quarzglas-Körnung einstel­ lende OH-Gehalt zum größten Teil fest gebunden ist und sich durch Tempern der Körnung bei höheren Temperaturen nicht oder nur geringfügig entfernen läßt. Dies ist vor allem dann vorteilhaft, wenn beim bestimmungsgemäßen Einsatz konstante Eigenschaften der Quarzglas- Körnung erwünscht sind.
Im folgenden wird das erfindungsgemäße Verfahren anhand eines Ausführungsbeispieles und einer Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1 zeigt anhand einer schematischen Darstellung eine für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeignete Vorrichtung.
In Fig. 1 ist die Bezugsziffer 1 insgesamt einem Knallgasbrenner zugeordnet, der mit einem Gaseinlaß 2 für Sauerstoff und einem weiteren Gaseinlaß 3 für Wasserstoff aufweist. Sauer­ stoff und Wasserstoff treten aus voneinander getrennten Brennerdüsen aus dem Brenner 1 aus und reagieren in einer exothermen Knallgasreaktion unter Bildung von H2O in einer Bren­ nerflamme 5 miteinander. Die Strömungsrichtung der aus dem Brennerkopf austretenden Gasströmung ist mit dem Richtungspfeil 9 gekennzeichnet. Die Lage des heißesten Bereiches der Brennerflamme 5 ist in der Darstellung als Oval mit der Bezugsziffer 4 angedeutet. Ober­ halb der Brennerflamme 5 mündet ein Schüttrüssel 6, der mit einem Vorratsbehälter 7 für po­ röses SiO2-Granulat 8 verbunden ist. Mittels des Schüttrüssels 6 wird das Granulat 8 senkrecht zur Strömungsrichtung 9 in die Brennerflamme 5 eingestreut und darin zu dichter Quarzglas- Körnung 10 verglast, wobei die Verglasung im wesentlichen im heißesten Bereich 4 der Bren­ nerflamme 5 stattfindet. Mittels der Strömung der Brennergase wird die verglaste Quarzglas- Körnung 10 über ein leicht geneigtes Drehrohr 11 aus opakem Quarzglas, das eine Länge von 1,80 m und einen Innendurchmesser von 80 mm aufweist, einem Zyklon 12 zugeführt. Im Zy­ klon 12 wird die Quarzglas-Körnung 10 vom Abgas 13 getrennt. Hierzu ist ein Gebläse 14 vor­ gesehen. Die Teile der Vorrichtung, mit der das Granulat 8 und die Quarzglas-Körnung 10 in Berührung kommen, bestehen jeweils aus Quarzglas.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele für das erfindungsgemäße Verfahren anhand der in Fig. 1 schematisch dargestellten Vorrichtung näher beschrieben:
Beispiel 1
Bei dem nachfolgend näher erläuterten Beispiel handelt es sich um einen Laborversuch zur Verglasung von porösem Granulat 8 in einer Acetylen/Sauerstoff-Flamme. In die Brennerflam­ me 5 wird mit einer Dosierung von 150 g/h amorphes, poröses SiO2-Granulat 8 eingestreut.
Bei dem Granulat 8 handelt es sich um gesiebtes Sprühkorn mit einer Kornfraktion von ≦ 180 µm. Mittels des Schüttrüssels 6 wird das Granulat 8 kontinuierlich in die Brennerflamme 5 eingestreut und darin dispergiert. Durch das Einstreuen werden die einzelnen Körner des Granulats 8 gleichmäßig in der Brennerflamme 5 verteilt und dabei schlagartig erhitzt. Durch das Einstreuen des Granulats 8 ändert sich die Flammentemperatur und -Geometrie; optisch ist eine Änderung der Flamme zu einer helleren Farbe und eine Verbreiterung der heißen Zo­ ne 4 wahrzunehmen. Durch das kontinuierliche Einstreuen des Granulats 8 in der Brenner­ flamme 5 und die feine Verteilung der einzelnen Körner wird die Bildung von Agglomeraten trotz der hohen Temperaturen verhindert. Das Verglasen des Granulats 8 in der Brennerflam­ me 5 erfolgt (unter reduzierenden Bedingungen) innerhalb von Sekundenbruchteilen. Gröbere Körner werden dabei durch die Strömung der Brenngase stärker beschleunigt als feinere Kör­ ner. Die Länge des Drehrohres 11 ist so bemessen, daß im hinteren, nicht beheizten Bereich die erweichte Quarzglas-Körnung 10 erstarren und abkühlen kann, bevor sie mit den Wandun­ gen des Zyklons 12 in Berührung kommt. Das Drehrohr 11 ragt tangential in den Zyklon 12 hinein, in dem die Quarzglas-Körnung 10 vom Abgas getrennt wird.
Die so erhaltene Quarzglas-Körnung 10 fällt als lose Schüttung sphärischer Körner an. Die Ausbeute liegt bei 100%, wobei der Verglasungsvorgang zu einer Volumenabnahme gegen­ über der Granulat-Schüttung von ca. 30% führt.
Beispiel 2
Beim nachfolgend näher erläuterten Ausführungsbeispiel werden mit der Brennereinstellung ebenfalls reduzierende Bedingungen eingestellt. Hierbei wird allerdings ein Knallgasbrenner eingesetzt. Wasserstoff und Sauerstoff reagieren exotherm in einer Knallgasreaktion unter Bildung der Brennerflamme 5 miteinander. Im Ausführungsbeispiel stellt sich im heißesten Be­ reich 4 der Brennerflamme 5 eine Temperatur von 2200°C ein. In die Brennerflamme 5 wird mit einer Dosierung von 150 g/h amorphes, poröses SiO2-Granulat 8 eingestreut. Im Unter­ schied zu Beispiel 1 handelt es sich bei dem Granulat 8 um gesiebtes Sprühkorn mit einer Kornfraktion von ≦ 90 µm. Die Verglasung des Granulats 8 erfolgt entsprechend dem oben an­ hand Beispiel 1 beschriebenen Verfahren. Die verglaste feinkörnige Quarzglas-Körnung 10 neigt aufgrund statischer Aufladung dazu, an der Innenwandung des Drehrohres 11 zu haften, was aber durch übliche Maßnahmen zur Ableitung elektrischer Ladungen leicht verhindert wer­ den kann. Auch bei diesem feinkörnigen Ausgangsmaterial fällt die verglaste Quarzglas-Kör­ nung 10 als lose Schüttung sphärischer Körner an. Die Ausbeute liegt bei 100%.
Beispiel 3
Bei dem nachfolgend näher erläuterten Beispiel handelt es sich um ein Verfahren zur Vergla­ sung von porösem Granulat 8 unter oxidierenden Bedingungen. Dem Knallgasbrenner 1 wer­ den 35 m3/h Wasserstoff und 18 m3/h Sauerstoff zugeführt. Wasserstoff und Sauerstoff rea­ gieren exotherm in einer Knallgasreaktion unter Bildung der Brennerflamme 5 miteinander. Im Ausführungsbeispiel stellt sich im heißesten Bereich 4 der Brennerflamme 5 eine Temperatur von größer 2200°C ein. In die Brennerflamme 5 wird mit einer Dosierung von 300 g/h amor­ phes, poröses SiO2-Granulat 8 eingestreut. Das Granulat 8 wird durch ein übliches Naßgranu­ lierungs-Verfahren erhalten. Zur Verglasung wird dann ein getrocknetes Granulat mit einer Siebfraktion zwischen 90 µm und 200 µm eingesetzt. Der Bereich 4 der höchsten Temperatur ist bei Beispiel 3 in seiner Längenausdehnung parallel zum Drehrohr 11 etwas größer als bei den vorherigen Ausführungsbeispielen; ansonsten erfolgt die Verglasung bei dem Verfahren nach Beispiel 3 entsprechend dem von Beispiel 1.
Die so erhaltene verglaste Quarzglas-Körnung 10 fällt als agglomeratfreie, lose Schüttung an. Die Ausbeute liegt bei 100%, wobei eine Verglasungsrate von 100% erreicht wird.
Beispiel 4
Bei dem nachfolgend näher erläuterten Beispiel handelt es sich um ein Verfahren zur Vergla­ sung von porösem Granulat 8 unter reduzierenden Bedingungen. Dem Knallgasbrenner 1 wer­ den 35 m3/h Wasserstoff und 14 m3/h eines Mischgases aus Chlor und Sauerstoff zugeführt. Wasserstoff einerseits und Sauerstoff und Chlor andererseits reagieren exotherm in einer Knallgasreaktion bzw. Chlor-Knallgasreaktion unter Bildung der Brennerflamme 5 miteinander. Im Ausführungsbeispiel stellt sich im heißesten Bereich 4 der Brennerflamme 5 eine Tempera­ tur von ca. 2100°C ein. In der Brennerflamme 5 ist HCl und freier Wasserstoff enthalten, dar­ überhinaus bilden sich darin reaktive Chlorradikale. In die Brennerflamme 5 wird mit einer Do­ sierung von 300 g/h amorphes, poröses SiO2-Granulat 8, das dem anhand Beispiel 3 Be­ schriebenen entspricht, eingestreut. Die Verglasung erfolgt ebenfalls entsprechend dem Ver­ fahren nach Beispiel 3, wobei aber durch chemische Reaktion von Chlor oder von Chlorverbin­ dungen und dem Granulat 8 sowohl der Hydroxylionengehalt der resultierenden Quarzglas- Körnung 10 gesenkt, als auch Verunreinigungen des Granulats 8 in Form fester Metalloxide in die entsprechenden flüchtigen Chloride umgewandelt und so entfernt werden. Die Reaktivität der chlorhaltigen Komponenten wird durch die hohe Temperatur der Brennerflamme 5 erhöht. Darüberhinaus wird die Reinigungswirkung durch die feine Verteilung des Granulats 8 in der Brennerflamme 5 und durch reaktive Chlorradikale noch gefördert. Die so erhaltene Quarz­ glas-Körnung 10 zeichnet sich durch einen niedrigen Gehalt an Verunreinigungen, wie Alkali­ en, Erdalkalien und Übergangsmetallen aus und ist im wesentlichen frei von Hydroxylionen. Die Verglasungsrate liegt bei annähernd 100%.

Claims (14)

1. Verfahren für die Herstellung von dichter, amorpher Quarzglas-Körnung, durch Erzeugen eines porösen Granulats aus amorphem SiO2-Pulver und Verglasen des Granulats, da­ durch gekennzeichnet, daß das poröse Granulat in einer Brenngasflamme fein verteilt wird, und in der Brenngasflamme verglast wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Granulat in die Brenn­ gasflamme eingerieselt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Granulat der Brenngas­ flamme mittels eines Gasstromes zugeführt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Granulat der Brenngas­ flamme unter der Wirkung eines Unterdrucks zugeführt wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Brenngasflamme auf eine Temperatur im Bereich von 1600°C bis 2500°C einge­ stellt wird, vorzugsweise im Bereich von 2000°C bis 2500°C.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Brenngasflamme eine halogenhaltige Komponente zugeführt wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Granulat vor dem Verglasen in mindestens einem ersten Sinterschritt vorverdichtet wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Granulat beim ersten Sinterschritt einer reaktiven Atmosphäre ausgesetzt wird.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Granulat eine mittlere Korngröße zwischen 50 µm und 300 µm aufweist.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Granulat durch Sprühgranulation erzeugt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das mittels Sprüfgranulation erzeugte Granulat eine mittlere Korngröße zwischen 5 µm und 150 µm aufweist.
12. Verfahren nach einem einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Granulat eine spezifische Oberfläche nach BET zwischen 5 m2/g und 100 m2/g aufweist.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Verglasen unter reduzierenden Bedingungen erfolgt.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Ver­ glasen unter oxidierenden Bedingungen erfolgt.
DE19937861A 1999-08-13 1999-08-13 Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung Expired - Fee Related DE19937861C2 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19937861A DE19937861C2 (de) 1999-08-13 1999-08-13 Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung
EP00116514A EP1076043B1 (de) 1999-08-13 2000-07-31 Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung
US09/636,148 US6360563B1 (en) 1999-08-13 2000-08-10 Process for the manufacture of quartz glass granulate
JP2000244539A JP2001080927A (ja) 1999-08-13 2000-08-11 緻密な石英ガラス粒子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19937861A DE19937861C2 (de) 1999-08-13 1999-08-13 Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19937861A1 DE19937861A1 (de) 2001-02-22
DE19937861C2 true DE19937861C2 (de) 2003-03-20

Family

ID=7917931

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19937861A Expired - Fee Related DE19937861C2 (de) 1999-08-13 1999-08-13 Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6360563B1 (de)
EP (1) EP1076043B1 (de)
JP (1) JP2001080927A (de)
DE (1) DE19937861C2 (de)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7093463B1 (en) * 1999-10-15 2006-08-22 Applikations-Und Technikzentrum Fur Energieverfahrens-Umwelt-Und Stromungstechnik (Atz-Evus) Method and device for producing powders that consist of substantially spherical particles
MXPA02008921A (es) 2000-03-14 2004-10-15 James Hardie Res Pty Ltd Materiales de construccion de fibras-cemento, con aditivos de baja densidad.
DE10115159A1 (de) * 2001-03-27 2002-11-28 Pur Bauchemie Gmbh Oberflächenbeschichtetes Glasgranulat
MXPA05002057A (es) * 2002-08-23 2005-09-12 James Hardie Int Finance Bv Microesferas sinteticas huecas.
MXPA05003691A (es) 2002-10-07 2005-11-17 James Hardie Int Finance Bv Material mixto de fibrocemento de densidad media durable.
US20090146108A1 (en) * 2003-08-25 2009-06-11 Amlan Datta Methods and Formulations for Producing Low Density Products
US20090156385A1 (en) * 2003-10-29 2009-06-18 Giang Biscan Manufacture and use of engineered carbide and nitride composites
US7998571B2 (en) 2004-07-09 2011-08-16 James Hardie Technology Limited Composite cement article incorporating a powder coating and methods of making same
JP2008531453A (ja) * 2005-02-24 2008-08-14 ジェイムズ ハーディー インターナショナル ファイナンス ベスローテン フェンノートシャップ 耐アルカリ性ガラス組成物
JP2007022832A (ja) * 2005-07-14 2007-02-01 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス粉末の製造方法
US8609244B2 (en) * 2005-12-08 2013-12-17 James Hardie Technology Limited Engineered low-density heterogeneous microparticles and methods and formulations for producing the microparticles
NZ571874A (en) 2006-04-12 2010-11-26 Hardie James Technology Ltd A surface sealed reinforced building element
US20070275335A1 (en) * 2006-05-25 2007-11-29 Giang Biscan Furnace for heating particles
US7884055B2 (en) * 2008-12-04 2011-02-08 Intevep, S.A. Ceramic microspheres for cementing applications
DE102009005446A1 (de) * 2009-01-21 2010-07-22 Schott Ag Granulat, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung
DE102010021693A1 (de) 2010-05-27 2011-12-01 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von Quarzglaskörnung
JP5612425B2 (ja) * 2010-10-01 2014-10-22 大阪瓦斯株式会社 粉粒体加熱装置
CN103153887B (zh) 2010-10-28 2016-09-07 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 用于生产合成石英玻璃颗粒的方法
JP6129293B2 (ja) 2012-04-05 2017-05-17 ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG 電気溶融された合成石英ガラスから成形体を製造する方法
DE102012006914B4 (de) 2012-04-05 2018-01-18 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung synthetischer Quarzglaskörnung
DE102012008123B4 (de) 2012-04-25 2014-12-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus elektrogeschmolzenem synthetischem Quarzglas
DE102012008437B3 (de) 2012-04-30 2013-03-28 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung synthetischer Quarzglaskörnung
EP3000790B2 (de) 2014-09-29 2023-07-26 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren für die Herstellung von Bauteilen aus synthetischem Quarzglas aus SiO2-Granulat
CN104909558B (zh) * 2015-06-10 2018-01-23 连云港市东海县宏伟石英制品有限公司 一种制备玻璃态透明石英砂的方法
KR20180094087A (ko) 2015-12-18 2018-08-22 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 실리카 과립으로부터 실리카 유리 제품의 제조
EP3390296A2 (de) 2015-12-18 2018-10-24 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Herstellung eines quarzglaskörpers in einem mehrkammerofen
EP3390308A1 (de) 2015-12-18 2018-10-24 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Glasfasern und vorformen aus quarzglas mit geringem oh-, cl- und al-gehalt
KR20180095619A (ko) 2015-12-18 2018-08-27 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 실리카 유리 제조 동안 규소 함량의 증가
US11053152B2 (en) 2015-12-18 2021-07-06 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass
WO2017103131A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verringern des erdalkalimetallgehalts von siliziumdioxidgranulat durch behandlung von kohlenstoffdotiertem siliziumdioxidgranulat bei hoher temperatur
KR20180095616A (ko) 2015-12-18 2018-08-27 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 용융 가열로에서 이슬점 조절을 이용한 실리카 유리체의 제조
CN108698880B (zh) 2015-12-18 2023-05-02 贺利氏石英玻璃有限两合公司 不透明石英玻璃体的制备
US11299417B2 (en) 2015-12-18 2022-04-12 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal
US10618833B2 (en) 2015-12-18 2020-04-14 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a synthetic quartz glass grain
EP3476815B1 (de) 2017-10-27 2023-11-29 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Herstellung eines porösen produkts, einschliesslich der nachanpassung einer porenstruktur
CA3144775A1 (en) * 2019-06-27 2020-12-30 Terra Co2 Technology Holdings, Inc. Cementitious reagents, methods of manufacturing and uses thereof
JP2023514971A (ja) * 2020-01-24 2023-04-12 オムヤ インターナショナル アクチェンゲゼルシャフト 中空球状ガラス粒子の製造方法
CN115557676A (zh) * 2022-08-25 2023-01-03 浙江颐核医疗科技有限公司 一种玻璃微球的成球装置及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3443821C2 (de) * 1983-11-30 1987-02-05 Denki Kagaku Kogyo K.K., Tokio/Tokyo, Jp
DE4424044A1 (de) * 1994-07-11 1996-01-18 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung von Kieselsäuregranulat und Verwendung des so hergestellten Granulats
US5604163A (en) * 1994-07-11 1997-02-18 Mitsubishi Chemical Corporation Synthetic silica glass powder
DE19813971A1 (de) * 1998-03-24 1999-10-07 Heraeus Quarzglas Verfahren für die Reinigung von SiO¶2¶-Körnung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR780527A (fr) * 1934-01-17 1935-04-27 Machine à fabriquer des sphères microscopiques en toutes matières fusibles
US3341314A (en) * 1963-05-09 1967-09-12 Horizons Inc Glass bead making apparatus
DE1596703A1 (de) * 1967-11-06 1971-04-08 Glaswerke Lauscha Veb Verfahren und Anlage zur Herstellung von kugelfoermigen Glaspartikeln
DE2557932A1 (de) * 1975-12-22 1977-06-30 Dynamit Nobel Ag Verfahren zur herstellung von koernigem quarzglas
CA1188895A (en) * 1980-09-11 1985-06-18 Shoichi Suto Fabrication methods of doped silica glass and optical fiber preform by using the doped silica glass
GB2176774A (en) * 1985-06-21 1987-01-07 Glaverbel Vitreous bead manufacture
GB8627735D0 (en) * 1986-11-20 1986-12-17 Tsl Group Plc Vitreous silica
JPH0761852B2 (ja) * 1987-03-23 1995-07-05 日東化学工業株式会社 非焼結クリストバライト化シリカの製造方法
US5004488A (en) * 1989-03-20 1991-04-02 Pitman-Moore, Inc. Process for producing high purity fused quartz powder
US5063179A (en) * 1990-03-02 1991-11-05 Cabot Corporation Process for making non-porous micron-sized high purity silica
US5611833A (en) * 1992-08-26 1997-03-18 Mg Industries Method and apparatus for producing spheroidal glass particles
JPH0967138A (ja) * 1995-06-22 1997-03-11 Toshiba Corp 半導体製造用石英及びその製造装置並びに製造方法
AU707863B2 (en) * 1995-11-01 1999-07-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Methods of making fused particulates by flame fusion
JPH11199219A (ja) * 1998-01-16 1999-07-27 Nippon Sanso Kk 球状シリカ粒子の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3443821C2 (de) * 1983-11-30 1987-02-05 Denki Kagaku Kogyo K.K., Tokio/Tokyo, Jp
DE4424044A1 (de) * 1994-07-11 1996-01-18 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung von Kieselsäuregranulat und Verwendung des so hergestellten Granulats
US5604163A (en) * 1994-07-11 1997-02-18 Mitsubishi Chemical Corporation Synthetic silica glass powder
DE19813971A1 (de) * 1998-03-24 1999-10-07 Heraeus Quarzglas Verfahren für die Reinigung von SiO¶2¶-Körnung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Also Published As

Publication number Publication date
EP1076043A3 (de) 2001-10-24
DE19937861A1 (de) 2001-02-22
JP2001080927A (ja) 2001-03-27
EP1076043B1 (de) 2004-07-14
US6360563B1 (en) 2002-03-26
EP1076043A2 (de) 2001-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19937861C2 (de) Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung
EP3000790B1 (de) Verfahren für die Herstellung von synthetischem Quarzglas aus SiO2-Granulat und geeignetes SiO2-Granulat dafür
EP3390292B1 (de) Herstellung einer synthetischen quarzglaskörnung
EP3390290B1 (de) Herstellung eines opaken quarzglaskörpers
EP3390293B1 (de) Erhöhen des siliziumgehalts bei der herstellung von quarzglas
DE19962449C2 (de) Quarzglastiegel und Verfahren für seine Herstellung
EP2315727B1 (de) Verfahren zur herstellung von mit stickstoff dotiertem quarzglas
DE102010008162B4 (de) Verfahren für die Herstellung von Quarzglas für einen Quarzglastiegel
EP3390302B1 (de) Herstellung eines quarzglaskörpers in einem schmelztiegel aus refraktärmetall
EP2834200B1 (de) Verfahren zur herstellung eines formkörpers aus elektrogeschmolzenem synthetischem quarzglas
DE102012008437B3 (de) Verfahren zur Herstellung synthetischer Quarzglaskörnung
DE102012008123B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus elektrogeschmolzenem synthetischem Quarzglas
EP3390297A1 (de) Gasspülung für schmelzofen und herstellungsverfahren für quarzglas
WO2017103114A2 (de) Herstellung eines quarzglaskörpers in einem hängenden sintertiegel
WO2017103123A2 (de) Herstellung von quarzglaskörpern mit taupunktkontrolle im schmelzofen
DE112011101801B4 (de) Verfahren zur Herstellung von Quarzglaskörnung
EP1006087B1 (de) Verfahren für die Reinigung von SiO2-Körnung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
JP4145855B2 (ja) 球状溶融シリカ粉末の製造方法
JP2820865B2 (ja) 石英ガラス発泡体の製造方法
JP2022052497A (ja) 造粒シリカ粉体及び造粒シリカ粉体の製造方法
DE102004003758A1 (de) Glasformkörper und ein Verfahren zu dessen Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8304 Grant after examination procedure
8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20110301